[发明专利]光源装置和使用该装置的投影器无效
| 申请号： | 00133149.3 | 申请日： | 2000-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN1294315A | 公开（公告）日： | 2001-05-09 |
| 发明（设计）人： | 竹泽武士 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/28 | 分类号： | G03B21/28;G02B5/10;G02B1/00;C04B35/00;C04B35/74 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘宗杰,叶恺东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光源 装置 使用 投影 | ||
1．一种光源装置，其特征在于，配有：
光源灯；和
反射从所述光源灯发射的光的反射器；
所述反射器使用20℃时热传导系数在约0．005(cal／cm·sec·deg)以上的陶瓷来形成。
2．如权利要求1所述的光源装置，所述陶瓷在约0℃～约200℃的范围内热传导系数在约0．004(cal／cm·sec·deg)以上。
3．如权利要求2所述的光源装置，所述陶瓷由从Al2O3、2MgO·SiO2、MgO·SiO2、ZrO2·SiO2、TiO2系化合物、SiC、Si3N4、ZrO2、金属陶瓷中选择的其中任何一种材料来构成。
4．如权利要求1所述的光源装置，在所述反射器的开口面上还配有透光性的前面板。
5．如权利要求1所述的光源装置，还配有强制冷却所述反射器的冷却装置。
6．如权利要求1所述的光源装置，还配有使所述光源灯发光的电源。
7．一种投影器，其特征在于，配有：
包括光源装置的照明光学系统；
根据图象信息调制来自所述照明光学系统的光的电光学装置；和
投射由所述电光学装置得到的调制光束的投射光学系统；
所述光源装置配有光源灯；和
反射从所述光源灯发射的光的反射器；
所述反射器使用20℃时热传导系数在约0．005(cal／cm·sec·deg)以上的陶瓷来形成。
8．如权利要求7所述的投影器，所述陶瓷在约0℃～约200℃的范围内热传导系数在约0．004(cal／cm·sec·deg)以上。
9．权利要求8所述的投影器，所述陶瓷由从Al2O3、2MgO·SiO2、MgO·SiO2、ZrO2·SiO2、TiO2系化合物、SiC、Si3N4、ZrO2、金属陶瓷中选择的其中任何一种材料来构成。
10．权利要求7所述的投影器，在所述反射器的开口面上还配有透光性的前面板。
11．权利要求7所述的投影器，还配有强制冷却所述反射器的冷却装置。
12．权利要求7所述的投影器，还配有使所述光源灯发光的电源。
13．权利要求7所述的投影器，还配有对所述电光学装置供给所述图像信息并进行驱动的驱动部。
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