[发明专利]跟踪补偿注浆控制地层位移方法无效
| 申请号： | 00135198.2 | 申请日： | 2000-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN1361333A | 公开（公告）日： | 2002-07-31 |
| 发明（设计）人： | 刘建航;刘国彬;侯学渊 | 申请（专利权）人： | 同济大学;上海时空软土工程研究咨询中心 |
| 主分类号： | E02D3/12 | 分类号： | E02D3/12;E02D17/04;E02D31/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200092*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 跟踪 补偿 控制 地层 位移 方法 | ||
【权利要求书】：
1.跟踪补偿注浆控制地层位移方法，其特征在于：在深基坑的围护结构(5)与邻近的建筑物或者构筑物之间地基土内，在基坑开挖前预先设置注浆孔在注浆孔内设置单向阀管(6)，跟踪基坑开挖后地基土体的变形情况，基坑围护结构(5)的支撑情况，将带有双向密闭注浆头的注浆管(1)插入单向阀管(5)内由上而下逐段进行注浆，每段注浆体的范围设在注浆体相对应的基坑围护结构的支撑部位，直至深基坑底部。
2.根据权利要求1所述的控制地层位移方法，其特征在于：在单向阀管(6)上由上之下间隔30～50厘米设置射浆孔(8)，射浆孔外包有橡皮套(7)。
3.根据权利要求1所述的控制地层位移方法，其特征在于：双向密闭注浆头由在注浆头的上部和下部固定设置采用由橡胶制成的密闭板(9)构成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同济大学;上海时空软土工程研究咨询中心，未经同济大学;上海时空软土工程研究咨询中心许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/00135198.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
