[发明专利]用于抗反射涂层的有机聚合物和其制备方法有效

专利信息
申请号: 00136237.2 申请日: 2000-12-25
公开(公告)号: CN1308089A 公开(公告)日: 2001-08-15
发明(设计)人: 郑旼镐;洪圣恩;郑载昌;李根守;白基镐 申请(专利权)人: 现代电子产业株式会社
主分类号: C08F20/32 分类号: C08F20/32;C09D133/14;C09D5/32
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 过晓东
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 反射 涂层 有机 聚合物 制备 方法
【权利要求书】:

1、一种具有如下化学通式聚合物:其中,

Ra和Rb独立地为氢或烷基;

R1至R9独立地为氢、羟基、烷氧基酰基、羧基、羟烷基,或者可任选取代的C1-C5烷基或烷氧基;

w和x是摩尔分数,每一个独立地在0.01至0.99的范围内;以及

n是1至4的整数。

2、如权利要求1所述的聚合物,其特征在于,Ra和Rb独立地为氢或甲基。

3、如权利要求2所述的聚合物,其特征在于,Ra、Rb和R1至R9为氢;w和x的比例为0.5∶0.5;n为2、3或4。

4、如权利要求2所述的聚合物,其特征在于,Ra为甲基;Rb和R1至R9为氢;w和x的比例为0.5∶0.5;n为2、3或4。

5、一种制备如下化学通式聚合物的方法:

所说的方法包括在能够产生所说的聚合物的条件下聚合单体混合物的步骤,其特征在于,所述的单体混合物中包括化学式如下的的9-蒽醛肟丙烯酸酯单体和化学式如下的羟烷基丙烯酸酯单体:其中,

Ra和Rb独立地为氢或烷基;

R1至R9独立地为氢、羟基、烷氧基酰基、羧基、羟烷基,或者可任选取代的C1-C5烷基或烷氧基;

w和x是摩尔分数,每一个独立地在0.01至0.99的范围内;以及

n是1至4的整数。

6、如权利要求5所述的方法,其特征在于,所说的单体混合物中还含有聚合引发剂。

7、如权利要求6所述的方法,其特征在于,所说的聚合引发剂选自于2,2-偶氮二异丁腈、过氧化乙酰、月桂基过氧化物和叔丁基过氧化物中。

8、如权利要求6所述的方法,其特征在于,所说的单体混合物中还含有溶剂。

9、如权利要求8所述的方法,其特征在于,所说的溶剂选自于四氢呋喃、甲苯、苯、甲基乙基酮和二噁烷中。

10、如权利要求5所述的方法,其特征在于,所说的聚合步骤包括将所说的单体混合物的温度加热至约50℃-约90℃。

11、一种具有如下化学通式的聚合物:其中,

Ra、Rb和Rc独立地为氢或烷基;

Rd是烷基;

R1至R9独立地为氢、羟基、烷氧基酰基、羧基、羟烷基,或者可任选取代的C1-C5烷基或烷氧基;

w、x和y是摩尔分数,每一个独立地在0.01至0.99的范围内;以及

n是1至4的整数。

12、如权利要求11所述的聚合物,其特征在于,Ra、Rb和Rc独立地为氢或甲基;Rd为甲基。

13、如权利要求12所述的聚合物,其特征在于,Ra、Rb和R1至R9为氢;Rc和Rd是甲基;w、x和y的比例为0.3∶0.5∶0.2;n为2、3或4。

14、如权利要求12所述的聚合物,其特征在于,Ra、Rc和Rd为甲基;Rb和R1至R9为氢;w、x和y的比例为0.3∶0.5∶0.2;n为2、3或4。

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