[发明专利]无清除剂照相卤化银影印介质

权利要求书

1．一种多层照相元件包含：一个反射性的支持体；其中，与支持体相邻的彩色记录层1包含至少一个光敏层和一个非光敏染料形成中间层；在上述彩色记录层1上的彩色记录层2包含至少一个光敏层和至少两个非光敏染料形成中间层；在上述彩色记录层2上的彩色记录层3包含至少一个光敏层和一个非光敏染料形成中间层；一个任选的含UV染料层的中间层和一个保护层；每个中间层均完全地或基本上不含清除剂，其包含含氯化银超过90％的卤化银颗粒，其中所述卤化银颗粒的互易特征为：当分别曝光1微秒和0.4秒时，在曝光量的对数为1.2或更小的范围内，相对于产生密度高于Dmin 0.04的曝光点，至少一个彩色记录层显影出至少2.0的密度。

2．权利要求1中照相元件，其中，在曝光量的对数为1.2或更小的范围内，相对于产生密度高于Dmin 0.04的曝光点，每一个彩色记录层显影出至少2.0的密度。

3．权利要求1或2中照相元件，其中银沉淀小于0.70g/m²。

4．权利要求1到3中照相元件，其中明胶沉淀在4.3和7.5g/m²之间。

5．权利要求1到4中任一项的元件，在最大密度为2.2下，在亚微秒时间的曝光下进行数字曝光，然后显影，其基本上不会出现边纹。

6．权利要求1到5中任一项的元件，其中，全彩色照相元件的卤化银颗粒包含至少90％的氯化银，还包含含有三唑或取代三唑配位体的铱配位络合物。

7．权利要求1到6中任一项的元件，还包含六配位金属络合物，满足公式：

[ML₆]n

其中

n为0,-1,-2,-3或-4；

M是填满最外层轨道的除了铱以外的多价金属离子；和

L₆代表可独立选择的桥连配位体，条件是至少四个配位体是阴离子配位体，至少一个配位体是氰基配位体或比氰基电负性更大的配位体。

8．权利要求1到7中任一项的元件，支持材料包含纸基底和至少一个双轴取向的层合到该基底上的聚烯烃片材。

9．权利要求1到8中任一项的元件，其中存在含有UV染料的中间层。