[发明专利]卤化银反射支持体印相介质无效
申请号: | 00137532.6 | 申请日: | 2000-12-27 |
公开(公告)号: | CN1301984A | 公开(公告)日: | 2001-07-04 |
发明(设计)人: | M·R·罗伯茨 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | G03C1/46 | 分类号: | G03C1/46;G03C7/30;G03C5/26 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王景朝,周慧敏 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 卤化 反射 支持 体印相 介质 | ||
1.包括反射支持体的多层照相元件,其中邻接于支持体的彩色记录层1包括至少一个感光层和非感光的形成染料的隔层;彩色记录层1之上的彩色记录层2包括至少一个感光记录层和至少两个非感光的形成染料的隔层;而彩色记录层2之上的彩色记录层3包括至少一个感光层和非感光的形成染料的隔层;还包括任选的含UV染料的隔层;以及顶面保护层;其中本发明多层结构的各彩色记录层经时间范围为20纳秒~500秒的一次或多次曝光和显影后产生具有如下性能的染料特性曲线:染料特性曲线的最大斜率值为2.0~5.0;分色曝光和显影后各彩色记录层的最大Status A反射密度≥1.0;显影后最低Status A反射密度≤0.300;在最小密度平台加0.04 Status A密度单位和最大密度平台减0.04 Status A密度单位之间的曝光量范围对数值不超过2.0。
2.权利要求1的照相元件,其中各彩色记录层在相对于产生最小密度之上0.04密度的曝光点处,于1.2或更小曝光量范围对数值之内、显影达到至少2.0密度。
3.权利要求1或2的照相元件,其中一个彩色记录层包含吡唑并三唑型形成品红染料的成色剂。
4.权利要求1~3任何一项的元件,其中当所说元件以亚微秒曝光时间进行数字曝光达最大密度2.2并显影,结果基本上没有边纹。
5.权利要求1~4任何一项的元件,其中全彩色照相元件的卤化银颗粒由至少90%的氯化银组成,并进一步包括含噻唑或取代噻唑配体的铱配位化合物。
6.权利要求1~5任何一项的元件,其中没有一个含卤化银的层所含的银多于0.25mg/m2。
7.权利要求1~5任何一项的元件,其中支持体包括纸基和至少一个邻接于纸基的包括聚烯烃聚合物和位阻胺稳定剂的层,其中位阻胺稳定剂的数均分子量小于2300。
8.权利要求1~7任何一项的元件,其中支持体材料包括纸基和至少一层熔体挤压的聚酯。
9.权利要求1~8任何一项的元件,其中支持体材料包括纸基和至少一层叠压于该纸基上的双轴取向聚烯烃片。
10.权利要求1~9的任何一项的元件,其中每个隔层都基本上没有净化剂,该元件包括含多于90%氯化银的卤化银颗粒,而其中卤化银颗粒的互易律特性达到下述标准,即对于1微秒和0.4秒的分色曝光而言,至少一个彩色记录层在相对于产生最小密度以上0.04密度的曝光点处,于1.2或更小曝光量范围对数值之内,显影达到至少2.0密度。
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