[发明专利]照相元件,化合物和冲洗加工方法

权利要求书

1．一种照相元件，含光敏卤化银乳剂层，乳剂层与具有结构式(Ⅰ)的“NB成色剂”相结合：其中：

术语“NB成色剂”代表结构式(Ⅰ)成色剂，它形成的染料利用自旋-涂布的左带宽(LBW)，至少比溶液形式中同样染料的要少5nm；

Y是H或偶合脱落(coupling-off)基团；

每个Z^*是独立地选择的取代基，p是0-2；

V是含磺酰胺基的取代基；

R₄是氢或通过脂族碳原子与碳酰胺基连接的基团；

条件是在V、R₄和全部Z^*中脂族碳原子的总和至少是8个。

2．权利要求1的元件，其中成色剂由结构式(Ⅱ)代表：其中：

L是连接基团；及

R₃是烷基、碳环或杂环基；

条件是在L、R₃、R₄和全部Z^*中脂族碳原子的总和至少是8个。

3．权利要求2的元件，其中成色剂由结构式(Ⅲ)代表：其中：

L是连接基团；

W¹代表为完成杂环或碳环基团所需要的原子；

每个Z’是独立地选择的取代基，m是0-5；

条件是在L、R₄、全部Z’和全部Z^*中脂族碳原子的总和至少是8个。

4．权利要求3的元件，其中成色剂由结构式(Ⅳ)代表：其中：

R₁和R₂独立地是H或1-5个碳原子的烷基；

条件是在R₁、R₂、R₄、全部Z’和全部Z^*中脂族碳原子的总和至少是8个。

5．权利要求5的元件，其中L含一个有一个或多个脂族碳原子的链。

6．权利要求3的元件，其中至少一个Z’基团是烷基或烷氧基。

7．权利要求3的元件，其中由W¹形成的环是选自由苯并咪唑基、苯并硒唑基、苯并噻唑基、苯并噁唑基、色酮基、呋喃基、咪唑基、吲唑基、吲哚基、异喹啉基、异噻唑基、异噁唑基、吗啉基、噁二唑基、噁唑基、甲代吡啶基、哌啶基、嘌呤基、哒嗪基(pyradazinyl)、吡喃基、吡嗪基、吡唑基、吡啶基、嘧啶基、吡咯基、吡咯烷基、喹哪啶基、喹唑啉基、喹啉基、喹喔啉基、硒唑基、碲唑基、四唑基、四氢呋喃基、噻二唑基、噻吗啉基、噻三唑、噻唑基、噻吩基、苯硫基和三唑基组成基团的杂环。

8．权利要求1-4的任一个元件，其中R₄由以下基团代表：其中每个R₅、R₆和R₇是独立地选自氢或一个取代基，条件是R₅、R₆和R₇中的两个或多个可联合形成一个环。

9．权利要求8的元件，其中R₅、R₆和R₇独立地代表氢、酰基、酰氧基、链烯基、烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、氨基甲酰基、碳酰胺基、羧基、氰基、卤素、杂环、羟基、硝基、氧代磺酰基、氨磺酰、磺酰胺基、磺酰、亚砜、硫代和脲基。

10．权利要求8的元件，其中R₅、R₆和R₇独立地代表氢、烷基、卤素或氰基。

11．一种照相元件，含光敏卤化银乳剂层，乳剂层与由结构式(Ⅰ)为代表的成色剂相结合：其中：

Y是H或一个偶合脱落基团；

每个Z^*是独立地选择的取代基，p是0-2；

V是含磺酰胺基的取代基；

R₄是氢或通过脂族碳原子与碳酰胺连接的基团；

条件是在V、R₄和全部Z^*中脂族碳原子的总和至少是8个。