[实用新型]纪念砖无效
申请号: | 00207726.4 | 申请日: | 2000-04-04 |
公开(公告)号: | CN2422366Y | 公开(公告)日: | 2001-03-07 |
发明(设计)人: | 张建军 | 申请(专利权)人: | 张建军 |
主分类号: | E04C1/39 | 分类号: | E04C1/39 |
代理公司: | 河南省南阳市专利服务中心 | 代理人: | 时剑峰 |
地址: | 473000 *** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纪念 | ||
本实用新型属于建筑技术领域,是一种纪念砖。
目前,在各国的重点文物、名胜古迹、旅游胜地,都有的少纪念留言墙、塔、坪及各种纪念性建筑和人文景观,这些景观要求是长期保存,但由于其采用的砖型不好,容易受震动、风化、水淋的影响而脱落倒塌和龟裂,造成既不能永久保存,又要大量维修。
本实用新型的目的是提供一种专用于纪念性建筑建设和修护的纪念砖,该砖应具有护震动风化水淋,利于永久保存的优点。
本实用新型所采取的技术方案是在现有砖的基础上加以改进,在砖的内侧大面预制有凹槽,外侧大面刻设或预制纪念图文。内侧大面的凹槽为贯通的梯形槽。
由于本实用新型采取了上述技术方案,与现有的砖相比,具有专用于纪念性建筑和修护,抗震动风化水淋,利于永久保存的优点。
下面结合附图及实例对本实用新型的具体结构特征作进一步说明。
图1表示本实用新型的总装结构示意图。
图2表示本实用新型的端视结构示意图。
如图1、图2所示,本实用新型具有砖体,砖体具有大面1、侧面2和端面3,它的主要特点是在内侧大面上预制有凹槽4,凹槽4可以为贯通的梯形槽,在外侧大面上刻设或预制有纪念图文5。该砖可以采用天然大理石、花岗岩、金属等材料,也可以采用陶瓷烧结。它可以通过专用基材进行切割-粗磨-铣槽-精研-纪念图文雕刻-抛光生产工艺最后加工成形状各异的念仿工艺砖。
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