[实用新型]反应溅射二氧化硅与导电膜连镀的气体隔离装置无效
| 申请号： | 00248947.3 | 申请日： | 2000-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN2441813Y | 公开（公告）日： | 2001-08-08 |
| 发明（设计）人： | 许生;范垂祯;李自鹏;颜远全;王建峰 | 申请（专利权）人： | 深圳威士达真空系统工程有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/10 | 分类号： | C23C14/10;C23C14/08;C23C14/34 |
| 代理公司： | 深圳市专利服务中心 | 代理人： | 王雄杰 |
| 地址： | 518057 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反应 溅射 二氧化硅 导电 膜连镀 气体 隔离 装置 | ||
【权利要求书】：
1、一种反应溅射二氧化硅与导电膜连镀的气体隔离装置，其特征在于：它是由隔离室和抽气泵组成，隔离室的两侧有镀膜室气体入口，隔离室接抽气泵。
2、根据权利要求1所述反应溅射二氧化硅与导电膜连镀的气体隔离装置，其特征在于：隔离室是两个相通的隔离室，肖后隔离室均开有镀膜室气体入口，各隔离室接有抽气泵。
3、根据权利要求1或2所述反应溅射二氧化硅与导电膜连镀的气体隔离装置，其特征在于：隔离室两侧的镀膜室气体入口上置有阀门。
4、根据权利要求1所述反应溅射二氧化硅与导电膜连镀的气体隔离装置，其特征在于：抽气泵是分子泵。
5、根据权利要求1或2所述反应溅射二氧化硅与导电膜连镀的气体隔离装置，其特征在于：前隔离室接的抽气泵是分子泵，后隔离室接的抽气泵是扩散泵。
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