[实用新型]泡沫镍磁控溅射卷绕镀膜机

说明书

本实用新型涉及泡沫镍金属化前处理设备，为磁控溅射卷绕镀膜装置。

镍氢、镍镉电池广泛应用于无线电通讯、无绳电话、便携式电子产品如电脑、游戏机、商务通掌上机及各种LCD显示器等。泡沫镍则是镍氢、镍镉电池的基本原材料，其市场需求量随着镍氢电池的飞速发展而越来越大，对其质量要求也越来越高。

现有技术的泡沫镍生产过程，一般采用活化-化学沉积镍-电镀镍的工艺流程，其明显的技术问题包括：(1)活化和化学沉积镍不均匀，导致最终电镀镍不均匀；(2)活化和化学沉积过程中有磷原子存在，磷原子混入镍中会影响终端产品电池的性能；(3)活化液和化学沉积液要经常调节，操作不方便；(4)活化和化学沉积液工作寿命不长，大量废弃有毒害液体造成环境污染。

本实用新型的目的是，提供一种泡沫镍磁控溅射卷绕镀膜机，它不仅完全克服了已有技术的上述不足，还使生产出的泡沫镍导电性均匀，镍层纯度高，可有效保证下游产品电池的性能。

本实用新型的技术方案是，所述镀膜机的机体是一个由上部放料室和下部收料室以及位于该二室之间的立式隧道式真空室组成的封闭箱体，由外接动力驱动旋转的放料辊安装在设有抽气接口的放料室中而收料室中装有由外接动力驱动旋转的收料辊，在立式隧道式真空室中由上至下装有若干成对的导向板，在放料辊与上导向板之间以及收料辊与下导向板之间分别装有若干导向辊，多组磁控溅射阴极和镍靶分别设置在立式隧道式真空室对应两侧且该两侧还装有相应的阳极。以下结合附图做出进一步说明。

附图说明：图1是实际结构图，其中：

1-放料室，                7-阳极，

2-放料辊，                10-收料辊，

3、11-无张力监控探头，    12-收料室，

4、9-导向辊，          13-抽气接口，

5、8-上、下导向板，    14-观察窗，

6-磁控溅射阴极与镍靶， 15-立式隧道式真空室。

由图1可知，本实用新型之镀膜机的机体是一个由上部放料室(1)和下部收料室(12)以及位于该二室(1)(2)之间的立式隧道式真空室(15)组成的封闭箱体，由外接动力驱动旋转的放料辊(2)安装在设有抽气接口(13)的放料室(1)中而收料室(12)中装有由外接动力驱动旋动的收料辊(10)，在立式隧道式真空室(15)中由上到下装有若干成对的导向板(5)(8)，在放料辊(2)与上导向板(5)以及收料辊(10)与下导向板(8)之间分别装有若干导向辊(4)(9)，多组磁控溅射阴极和镍靶(6)分别设置在立式隧道式真空室(15)对应两则且该两侧装有相应的阳极(7)。为控制工件在镀镍过程的张力状态，可在放料室(1)和收料室(12)上分别安装无张力监控探头(3)(11)(其可用位置传感器)，其与相应监控器相连；还可在收料室(12)上安装观察窗(14)。

本实用新型的设计原理是，经抽气接口(13)抽出箱内空气而使之处在一定真空度下；末镀的聚氨酯泡沫带(工件)绕装在放料辊(2)上并由导向辊(4)导向后从导向板(5)(8)之间向下输送至收料辊(10)上收绕，接通电源使所述电极和靶(6)及电极(7)工作而实现对工件的磁控溅射镀镍过程。由于放料辊(2)和放料辊(10)分别由动力驱动，从而使工件在无张力及真空条件下实现镀镍过程，保证了产品质量。

由以上可知，本实用新型为一种泡沫镍磁控溅射卷绕镀膜机，使工件在整个生产过程采用自由下垂运行和无张力控制，产品不受外界张力影响；经所述磁控溅射镀制的泡沫镍导电性均匀，截面镍分布系数小；由于镍层在真空镀制过程中不受其它杂质污染而使镍层纯度高，能更好地保证下游产品(电池)的性能；生产过程和工艺参数可用PLC程序控制器和主计算机控制，工艺稳定、运行可靠、重复性好，且操作简便；生产过程在真空下进行，无毒、无公害、不污染环境。

实施例：按照附图和上述结构的本实用新型镀膜机，设计参数为：

1、极限真空        5×10^-4Pa；

2、恢复真空时间    从大气到3×10^-3Pa约30分钟；

3、工作压强        0.2-0.5Pa；

4、镀泡沫镍带幅宽  1100mm；

   镀泡沫镍带厚度  0.5-2mm；

   收放料最大卷径  Φ600mm；

5、镀膜速度        1-10m/min；

6、阴极数量        8个；