[发明专利]用于去除抗光蚀剂和蚀刻残留物的含有氟化物的酸性组合物有效

专利信息
申请号: 00800080.8 申请日: 2000-01-04
公开(公告)号: CN1302327A 公开(公告)日: 2001-07-04
发明(设计)人: 达里尔·W·彼得斯;伊尔·E·沃德 申请(专利权)人: 阿什兰公司
主分类号: C11D9/04 分类号: C11D9/04
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 于辉
地址: 美国俄*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 去除 抗光蚀剂 蚀刻 残留物 含有 氟化物 酸性 组合
【权利要求书】:

1.一种低表面张力、低粘度的水基组合物,其基本上由以下的物质组成:

a.酸性的缓冲溶液,

b.可以任何比例混溶于水中的极性有机溶剂,

c.氟化物,和

d.水,

其中该水基组合物的pH为约3-6,并且不含二元醇。

2.权利要求1的组合物,其基本组成还有腐蚀抑制剂。

3.权利要求1的组合物,其中酸性缓冲溶液含有羧酸或多价酸的铵盐。

4.权利要求1的组合物,其中极性溶剂是-乙醇胺、n-甲基乙醇胺、甲酰胺、n-甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、γ-丁内酯、N-甲基吡咯烷酮或它们的混合物。

5.权利要求1的组合物,其中氟化物具有通式R1R2R3R4NF,其中R1,R2,R3和R4独立地为氢、醇基、烷氧基、烷基或其混合物。

6.权利要求2的组合物,其中腐蚀抑制剂的pKa低于约6。

7.权利要求2的组合物,其中腐蚀抑制剂是氨基苯甲酸、没食子酸、苯甲酸、丙二酸、马来酸、富马酸、D,L-苹果酸、异邻苯二甲酸、邻苯二甲酸、马来酸酐、邻苯二甲酸酐或它们的混合物。

8.权利要求3的组合物,其中酸性缓冲剂是乙酸铵和乙酸的溶液。

9.权利要求1的组合物,其中氟化物是氟硼酸。

10.权利要求5的组合物,其中氟化物是氟化铵、四甲基氟化铵或四乙基氟化铵。

11.权利要求1的组合物,其在25℃下表面张力低于或等于30mN/m,粘度低于或等于15厘泊。

12.一种低表面张力、低粘度的组合物,其基本上由以下物质组成:

a.含有乙酸和乙酸铵的酸性缓冲溶液,

b.30%-90%重量的可以任何比例混溶于水中的极性有机溶剂,

c.0.1%-20%重量的氟化铵,和

d.0.5%-40%重量的水,和

f.可高至15%重量的腐蚀抑制剂,

其中该组合物的pH为3-6,并且不含二元醇。

13.一种低表面张力、低粘度的水基组合物,其基本上由以下物质组成:

a.乙酸铵;

b.二甲基乙酰胺,

c.乙酸,

d.40%氟化铵水溶液,和

e.去离子水,

其中该组合物的pH为约3-6,并且不含二元醇。

14.一种从基片上去除抗光蚀剂或残留物的方法,包括:在20℃-80℃下将权利要求1的组合物施用到基片上,经足够长的时间,从基片上去除该涂层。

15.权利要求14的方法,其中温度为20℃-60℃。

16.权利要求14的方法,其中温度为20℃-约40℃。

17.权利要求14的方法,其中温度是20℃。

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