[发明专利]用于去除抗光蚀剂和蚀刻残留物的含有氟化物的酸性组合物有效
申请号: | 00800080.8 | 申请日: | 2000-01-04 |
公开(公告)号: | CN1302327A | 公开(公告)日: | 2001-07-04 |
发明(设计)人: | 达里尔·W·彼得斯;伊尔·E·沃德 | 申请(专利权)人: | 阿什兰公司 |
主分类号: | C11D9/04 | 分类号: | C11D9/04 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 于辉 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 去除 抗光蚀剂 蚀刻 残留物 含有 氟化物 酸性 组合 | ||
1.一种低表面张力、低粘度的水基组合物,其基本上由以下的物质组成:
a.酸性的缓冲溶液,
b.可以任何比例混溶于水中的极性有机溶剂,
c.氟化物,和
d.水,
其中该水基组合物的pH为约3-6,并且不含二元醇。
2.权利要求1的组合物,其基本组成还有腐蚀抑制剂。
3.权利要求1的组合物,其中酸性缓冲溶液含有羧酸或多价酸的铵盐。
4.权利要求1的组合物,其中极性溶剂是-乙醇胺、n-甲基乙醇胺、甲酰胺、n-甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、γ-丁内酯、N-甲基吡咯烷酮或它们的混合物。
5.权利要求1的组合物,其中氟化物具有通式R1R2R3R4NF,其中R1,R2,R3和R4独立地为氢、醇基、烷氧基、烷基或其混合物。
6.权利要求2的组合物,其中腐蚀抑制剂的pKa低于约6。
7.权利要求2的组合物,其中腐蚀抑制剂是氨基苯甲酸、没食子酸、苯甲酸、丙二酸、马来酸、富马酸、D,L-苹果酸、异邻苯二甲酸、邻苯二甲酸、马来酸酐、邻苯二甲酸酐或它们的混合物。
8.权利要求3的组合物,其中酸性缓冲剂是乙酸铵和乙酸的溶液。
9.权利要求1的组合物,其中氟化物是氟硼酸。
10.权利要求5的组合物,其中氟化物是氟化铵、四甲基氟化铵或四乙基氟化铵。
11.权利要求1的组合物,其在25℃下表面张力低于或等于30mN/m,粘度低于或等于15厘泊。
12.一种低表面张力、低粘度的组合物,其基本上由以下物质组成:
a.含有乙酸和乙酸铵的酸性缓冲溶液,
b.30%-90%重量的可以任何比例混溶于水中的极性有机溶剂,
c.0.1%-20%重量的氟化铵,和
d.0.5%-40%重量的水,和
f.可高至15%重量的腐蚀抑制剂,
其中该组合物的pH为3-6,并且不含二元醇。
13.一种低表面张力、低粘度的水基组合物,其基本上由以下物质组成:
a.乙酸铵;
b.二甲基乙酰胺,
c.乙酸,
d.40%氟化铵水溶液,和
e.去离子水,
其中该组合物的pH为约3-6,并且不含二元醇。
14.一种从基片上去除抗光蚀剂或残留物的方法,包括:在20℃-80℃下将权利要求1的组合物施用到基片上,经足够长的时间,从基片上去除该涂层。
15.权利要求14的方法,其中温度为20℃-60℃。
16.权利要求14的方法,其中温度为20℃-约40℃。
17.权利要求14的方法,其中温度是20℃。
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