[发明专利]经表面处理的铜箔及其制备方法有效

专利信息
申请号: 00803753.1 申请日: 2000-11-27
公开(公告)号: CN1340288A 公开(公告)日: 2002-03-13
发明(设计)人: 高桥直臣;平泽裕 申请(专利权)人: 三井金属鉱业株式会社
主分类号: H05K1/09 分类号: H05K1/09;H05K1/03;B32B15/08;C25D5/10;C25D11/38
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 白益华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 表面 处理 铜箔 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种用于制造印刷线路板的经表面处理的铜箔,它通过以下步骤制得:对未进行表面处理的铜箔的表面进行结节化处理和抗腐蚀处理,其中

抗腐蚀处理包括在铜箔表面上形成锌或锌合金层,并在锌或锌合金层上形成电沉积铬酸盐层;不让经结节化处理的表面的电沉积铬酸盐层达到干燥,就在电沉积铬酸盐层上形成吸附硅烷偶联剂的层;然后干燥。

2.一种用于制造印刷线路板的经表面处理的铜箔,它通过以下步骤制得:对未进行表面处理的铜箔进行结节化处理和抗腐蚀处理,其中

结节化处理包括在铜箔表面上沉积铜微粒,密封电镀以防这些铜微粒脱落,再进一步沉积超微细铜颗粒;

抗腐蚀处理包括在铜箔表面上形成锌或锌合金层,并在锌或锌合金层上形成电沉积铬酸盐层;不使经结节化处理的表面的电沉积铬酸盐层达到干燥,就在电沉积铬酸盐层上形成吸附硅烷偶联剂的层;然后干燥。

3.如权利要求1或2所述的经表面处理的铜箔,其中硅烷偶联剂是选自烯烃官能的硅烷、环氧官能的硅烷、丙烯酸系官能的硅烷、氨基官能的硅烷和巯基官能的硅烷中的任一种。

4.一种制造权利要求1-3中任一项所述的经表面处理铜箔的方法,所述方法包括对未进行表面处理的铜箔的至少一面进行结节化处理;对经结节化处理的铜箔的两面进行抗腐蚀处理;以及实现硅烷偶联剂在经结节化处理的表面上的吸附,其中

抗腐蚀处理包括在铜箔的表面上形成锌或锌合金层,并在该锌或锌合金层上形成电沉积铬酸盐层;不让电沉积铬酸盐层达到干燥,就实现硅烷偶联剂的吸附以形成吸附有硅烷偶联剂的层;然后进行干燥。

5.一种制造权利要求2或3中任一项所述的经表面处理铜箔的方法,所述方法包括对未进行表面处理的铜箔的至少一面进行结节化处理;对经结节化处理的铜箔的两面进行抗腐蚀处理;以及实现硅烷偶联剂在经结节化处理的表面上的吸附,其中

结节化处理包括在铜箔的至少一面上沉积铜微粒,进行密封电镀,然后在上面沉积超微细铜颗粒;

结节化处理之后的抗腐蚀处理包括形成锌或锌合金层,形成电沉积铬酸盐层;不让经结节化处理的表面的电沉积铬酸盐层达到干燥,就形成吸附硅烷偶联剂的层;然后干燥。

6.如权利要求4或5所述的制造经表面处理的铜箔的方法,其特征在于所述铜箔在使箔温为105-170℃的温度条件下干燥。

7.由使用权利要求1-3中任一项所述的经表面处理的铜箔制得的覆铜层压物。

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