[发明专利]用于低污染研磨的搅拌研磨机和方法无效

专利信息
申请号: 00804972.6 申请日: 2000-03-08
公开(公告)号: CN1345257A 公开(公告)日: 2002-04-17
发明(设计)人: 赫里斯托斯·安格勒塔基斯 申请(专利权)人: 科尔公司
主分类号: B02C17/16 分类号: B02C17/16
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 蔡洪贵
地址: 美国加*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 污染 研磨 搅拌 研磨机 方法
【权利要求书】:

1.一种用于制备高纯度研磨微粒的搅拌研磨机,包括:

一个具有限定研磨腔的内腔表面的外壳;

一个具有位于研磨腔内的外表面的搅拌器,该搅拌器包括一个转动轴和至少一个从转动轴伸出并经研磨腔延伸的延伸部;

一个位于内腔表面和转动轴之间的密封件,密封件由维氏硬度至少约为11GPa的材料制成;以及

一个形成于内腔表面和搅拌器外表面的无着色、耐磨聚合物覆层。

2.根据权利要求1所述的搅拌研磨机,其中,聚合物材料是聚氨酯。

3.根据权利要求2所述的搅拌研磨机,其中,聚氨酯选自利用多羟基化合物链增和交联的醚类或酯类预聚物。

4.根据权利要求2所述的搅拌研磨机,其中,聚氨酯选自利用胺链增和交联的醚类或酯类预聚物。

5.根据权利要求1所述的搅拌研磨机,其中,聚合物材料是含氟弹性体。

6.根据权利要求5所述的搅拌研磨机,其中,含氟弹性体是1,1-二氟乙烯和六氟丙烯共聚物。

7.根据权利要求6所述的搅拌研磨机,其中,1,1-二氟乙烯和六氟丙烯共聚物具有重复的结构:

CF2--CH2--CF2--CF(CF3)--。

8.根据权利要求1所述的搅拌研磨机,其中,密封件由氧化钇稳定的氧化锆制成。

9.根据权利要求1所述的搅拌研磨机,其还包括:

一个位于研磨腔一端的入口;

一个位于研磨腔相对端的出口;以及

一个位于研磨腔出口处的间隙分离器。

10.根据权利要求9所述的搅拌研磨机,其中,间隙分离器由多个通过填隙片分隔的陶瓷板构成。

11.根据权利要求10所述的搅拌研磨机,其中,陶瓷材料的莫氏硬度至少约6.0。

12.根据权利要求10所述的搅拌研磨机,其中,陶瓷材料是氧化锆。

13.根据权利要求1所述的搅拌研磨机,其中,转动轴及其延伸部涂覆有无着色的耐磨聚合物。

14.根据权利要求1所述的搅拌研磨机,其还包括位于研磨腔的填充研磨介质。

15.根据权利要求14所述的搅拌研磨机,其中,研磨介质是直径约为0.2-0.6mm的氧化钇稳定的氧化锆。

16.一种用于有效地研磨高纯度亚微增强微粒的方法,其包括以下步骤:

提供一个搅拌研磨机,该搅拌研磨机具有研磨腔和伸入并穿过研磨腔的搅拌器,它们涂覆有无着色的耐磨聚合物覆层,研磨腔在搅拌器伸入研磨腔的地方用密封件进行密封,该密封件由维氏硬度至少约为11GPa的材料制成;

将研磨介质充入研磨腔;

将包含有待研磨微粒的湿浆液充入研磨腔;

使搅拌器运动足够的时间,从而将微粒研磨到使其微粒平均尺寸约为0.05-0.50μm;以及

使浆液与研磨介质分离。

17.根据权利要求16所述的方法,其中,密封件和研磨介质由氧化钇稳定的氧化锆构成。

18.根据权利要求16所述的方法,其中,聚合物覆层是聚氨酯覆层。

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