[发明专利]使用红外辐射均匀加热玻璃和/或玻璃陶瓷的方法和装置无效
申请号: | 00805296.4 | 申请日: | 2000-03-22 |
公开(公告)号: | CN1344232A | 公开(公告)日: | 2002-04-10 |
发明(设计)人: | 乌尔里克·福塞林汉姆;豪克·埃斯曼;马库斯·加希-安德烈斯;伯恩德·霍普;马赛厄斯·布林克曼;诺伯特·格罗伊利希·希克曼 | 申请(专利权)人: | 舱壁玻璃公司 |
主分类号: | C03B29/02 | 分类号: | C03B29/02;C03B29/00;C03B29/08;C03B32/00;C03B23/025;C03B23/035;C03B37/029;C03B5/235;C03B5/42;C03B5/033 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 范明娥 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 红外 辐射 均匀 加热 玻璃 陶瓷 方法 装置 | ||
1.借助于红外辐射均匀加热半透明和/或透明玻璃和/或玻璃陶瓷的方法,由此在20-3000℃,尤其是20-1705℃的温度范围内对玻璃和/或玻璃陶瓷进行热处理,其特征在于:通过直接作用到玻璃和/或玻璃陶瓷上的红外辐射部分以及间接作用到玻璃和/或玻璃陶瓷上的红外辐射部分进行加热,其中,间接作用到玻璃和/或玻璃陶瓷上的辐射部分高于总辐射效率的50%。
2.根据权利要求1的方法,其特征在于:红外辐射是具有着色温度高于1500K,优选高于2000K,更优选高于2400K,特别优选高于2700K,最优选高于3000K的短波红外辐射。
3.根据权利要求1或2的方法,其特征在于:间接作用到玻璃和/或玻璃陶瓷上的红外辐射至少包括反射和/或散射辐射的部分。
4.根据权利要求1-3任一项的方法,其特征在于:在短波的红外辐射中一次入射到玻璃上的平均高于50%的从红外辐射器辐射的总辐射效率未被吸收。
5.根据权利要求1-4任一项的方法,其特征在于:该方法是在由壁、底部和顶部限定的室内,尤其是红外辐射空腔中进行的。
6.根据权利要求5的方法,其特征在于:由壁面、底面和/或顶面的至少一部分反射和/或散射的红外辐射进行反射和/或散射。
7.根据权利要求6的方法,其特征在于:由壁面、底面和/或顶面部分反射和/或散射的红外辐射部分高于入射到表面上的辐射的50%。
8.根据权利要求6的方法,其特征在于:由壁面、底面和/或顶面部分反射和/或散射的红外辐射部分高于90%,优选高于95%,更优选高于98%。
9.根据权利要求1-8任一项的方法,其特征在于:间接作用到玻璃和/或玻璃陶瓷上的红外辐射包括红外辐射的部分,这一部分是被载体吸收转变成热量并传递给与载体热结合的玻璃和/或玻璃陶瓷上。
10.根据权利要求9的方法,其特征在于:热量是通过热辐射和/或热传导和/或对流传递到与载体热结合的玻璃上的。
11.根据权利要求9或10的方法,其特征在于:使用陶瓷板作为载体。
12.根据权利要求9-11任一项的方法,其特征在于:载体包括SiC,尤其是SiSiC。
13.根据权利要求9-12任一项的方法,其特征在于:载体的发射率高于0.5。
14.根据权利要求9-13任一项的方法,其特征在于:在热处理温度范围内的载体的热导率至少是需处理玻璃或玻璃陶瓷热导率的5倍。
15.均匀加热半透明和/或透明玻璃和/或玻璃陶瓷的装置,尤其是在20-3000℃,特别是在20-1705℃的温度范围内进行,采用
15.1发射短波红外辐射的红外辐射源(1);
15.2引起间接作用在玻璃和/或玻璃陶瓷上的红外辐射的措施,其特征在于:
15.3引起间接作用在玻璃和/或玻璃陶瓷上的红外辐射的措施是这样地设置和实现的,以使间接作用在玻璃和/或玻璃陶瓷上的辐射部分高于总辐射效率的50%。
16.根据权利要求15的装置,其特征在于:引起间接作用在玻璃和/或玻璃陶瓷(5)上的红外辐射的措施包括反射和/或散射红外辐射的反射器(3)或漫射器。
17.根据权利要求15-16任一项的装置,其特征在于:装置包括由壁、底部和顶部限定的室,尤其是红外辐射空腔。
18.根据权利要求17的装置,其特征在于:由壁面和/或底面和/或顶面限定的室包括反射器和/或漫射器。
19.根据权利要求18的装置,其特征在于:反射器或漫射器要这样地设置,以使其反射或散射高于50%的入射到这些表面上的辐射。
20.根据权利要求19的装置,其特征在于:反射器或漫射器要这样地设置,以使其反射和/或散射高于90%,优选高于95%,更优选高于98%入射到这些表面上的辐射。
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