[发明专利]半导体结构

权利要求书

1、一种对除了一多层集成电路晶片或类似物的下层上的图形以外的，在顶层上的不透光的导线图形进行光学检查的方法，包括有步骤：在响应于预定频率的一激光而发荧光的一材料的这样一顶层上形成这些导线图形且其中该发荧光频率不同于该预定频率；沿与该层成相对倾斜角从该层的相对侧投射的一对光束，将所述预定频率的激光引导到所述层上；光学地检查响应于该对光束引导到该层上而从该顶层发荧光的所述不同频率的光；产生遮蔽下层的一被照明的顶层发荧光背景且在其上的导线图形呈现为暗线；调节该对激光光束的运行以避免可能产生频率差拍的严格的频率相干；及调节该对光束的所述相对的倾斜的角度以消除否则可能被误显现为暗导线的这些线之间的相邻导线的近侧边之间的暗阴影区的产生。

2、根据权利要求1所述的方法，其中通过自一对分离的激光器生成所述对光束，而取得提高的光束功率。

3、根据权利要求1所述的方法，其中通过光学地分裂一公共的激光光束以生成该对光束，来产生该对光束。

4、根据权利要求1所述的方法，其中通过当该顶部层被扫描时，沿-时间-延迟-集成CCD的连续行的象素传感器，监视该时间-延迟-集成CCD中的发荧光的光来进行该检查，且其中所得到的该CCD中的累积电荷以与该扫描相同的速度被电移位；且对各激光光束进行定位以照明沿该CCD的不同行群，以产生总和由各激光光束单独生成的被监视的荧光信号的净效。

5、根据权利要求1所述的方法，其中各激光光束首先被扩展成基本的圆形且然后被通过一柱面透镜以平象该光束，以用作为一狭缝激光用于投射到所述顶层上。

6、一种用于光学地检查一多层集成电路晶片及类似物的除了在下层上的图形外的、在顶层上的不透光的导线图形的设备，其中这些导线图形被形成在响应于预定频率的激光发荧光的一材料的这样的一顶层上且其中发荧光频率不同于该预定频率，所述设备具有组合的用于生成并沿着自该层的相对侧以与其相对的倾斜的角度射出的一对光束，引导所述预定频率的激光到所述顶层上的装置；用于光学检查响应于该对光束引导至其上而从顶层发荧光的所述不同频率的光，产生遮蔽下层的一被照明的顶层发荧光背景的且在其上这些导线图形呈现为暗线的装置；用于调节该对激光光束的运行以避免可能产生频率差拍的严格的频率相干的装置；及用于调节该对光束的所述相对倾斜的角度以消除否则可能被误表现为暗导线的这些线之间的相邻导线的近侧边之间的暗阴影区的生成的装置。

7、根据权利要求6所述的设备，其中通过自一对分离的激光器生成所述对光束的装置而取得提高的光束功率。

8、根据权利要求6所述的设备，其中通过光学地分裂一公共的激光光束以生成该对光束的装置来产生该对光束。

9、根据权利要求6所述的设备，其中通过以下的装置进行该检查：用于监视具有连续行的象素传感器的-时间-延迟-集成CCD中的发荧光的光的装置；用于当以预定的速度扫描该顶层时，扫描所述行的装置；用于将所得到的该CCD中的累积电荷以与该扫描相同的速度进行电移位的装置；及用于对各激光光束进行定位以照明沿该CCD的不同行群，以产生总和由各激光光束单独生成的被监视的荧光信号的净效的装置。

10、根据权利要求6所述的设备，其中各激光光束首先通过一光束扩展透镜被扩展成基本的圆形且然后被通过一柱面透镜以平象该光束，以用作为一狭缝激光用于投射到所述顶层上。

11、一种对除了一多层集成电路晶片或类似物的下层上的图形以外的，在顶层上的不透光的导线图形进行光学检查的方法，包括有步骤：在响应于预定频率的一激光而发荧光的一材料的这样一顶层上形成这些导线图形且其中该发荧光频率不同于该预定频率；与所述层成一倾斜角地将所述预定频率的激光引导到所述层上；光学地检查响应于该激光引导到该层上而从该顶层发荧光的所述不同频率的光；产生遮蔽下层的一被照明的顶层发荧光背景且在其上的导线图形呈现为暗线；及调节所述倾斜角以使否则可能被误显现为暗导线的这些线之间的相邻导线的近侧边之间的暗阴影区的生成最小化。

12、根据权利要求11所述的方法，其中该激光首先被扩展成基本的圆形且然后被平象以用作为一狭缝激光用于以所述倾斜角投射到所述顶层上。