[发明专利]利用可交联聚硅氧烷组合物涂布基材的方法和装置无效
申请号: | 00806516.0 | 申请日: | 2000-02-21 |
公开(公告)号: | CN1354697A | 公开(公告)日: | 2002-06-19 |
发明(设计)人: | J-P·柏纳蕴;F·戴斯尼;C·古约特;A·利夫勒;B·米拉贝尔;C·米罗;A·保奇隆 | 申请(专利权)人: | 罗狄亚化学公司 |
主分类号: | B05D1/34 | 分类号: | B05D1/34;B05D5/08;D21H27/00;C09J7/04 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 黄淑辉 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 交联 聚硅氧烷 组合 物涂布 基材 方法 装置 | ||
1.一种运行的柔性基材条的连续涂布方法,该方法在涂层质量方面提供了明显的改进,以及提供了所需质量成品生产优异的一致性,所述涂布是利用聚硅氧烷组合物完成的,所述组合物包含:至少一种聚有机硅氧烷A,至少一种通过氢化硅烷化和/或脱氢缩聚能够进行交联的交联剂B,和有效量的催化剂C,其特征在于,所述方法主要在于以下步骤:
1.通过-当能够制备预混物时,制备至少一种预混物AB和/或AC和/或BC,和/或通过利用预混物AB,-选择混合条件,以计量量连续地混合,特别是,具有活性基团RGa的POS(s)A,和具有活性基团RGb的交联剂B,和催化剂C,从而形成均匀的混合物,所述混合条件将致使:
*30℃时的浴寿命(BLT)在1小时至24小时的范围内,
*浴均匀性以差示扫描量热法DSC标记包含至少一个基本高斯峰显示为准,其中,峰起始温度为T1,峰顶点温度为T2,峰末端温度为T3,该峰的特征在于:
i-T3在110℃至200℃的范围内,
ii-ΔT=T3-T1在20℃至100℃的范围内,
iii-ΔT≤100℃,
iv-ΔT=ΔT(参考值)±10℃,
ΔT(参考值)相当于T3(参考值)-T1(参考值),该值由参考ABC混合物的DSC标记峰得到,所述参考混合物根据方法Pr制备,
*均匀混合物的生产流量以下列条件为准:从特别是将组份A、B和C放置在一起至将特别是ABC的均匀的基础混合物施加至运行的基材条上时的持续时间d低于或等于BLT,该流量值可能在相当于涂布位置上混合物的消耗速率的值和确定缓冲罐构成的值之间,
2.同时或以另外方式,将直接来自混合器的均匀混合物形式的组合物输送至涂布位置,
3.用组合物涂布运行的基材条,
4.使组合物发生交联。
2.根据权利要求1的方法,其特征在于:
--POS A选自:
--POSs,其每分子含至少两个位于链中和/或在链两端的基团RGa,每个基团由连接至硅上的C2-C10烯基组成,
--及其混合物,
--而交联剂B由至少一种POS组成,所述POS的每分子含至少两个位于链中和/或在链两端的基团RGb,每个基团由连接至硅上的氢原子组成;
--通过氢化硅烷化使A与B反应;
--RGb∶RGa的摩尔比在0.4-10的范围内。
3.根据权利要求1或2的方法,其特征在于:
POS A选自:
*带有至少两个位于链中和/或链两端的可缩合或可水解基团RGa的聚二有机基硅氧烷,每个基团由连接至硅上的基团OR组成,其中R为氢原子或C1-C6烷基基团,
*及其混合物;
--而交联剂B是带有RGb的POSB,其中RGb=H;
--通过脱氢缩聚使A和B反应;
--并且RGa∶RGb的摩尔比在0.4-10的范围内。
4.根据权利要求1-3任一项的方法,其特征在于:
当打算用于运行的柔性基材条的薄层涂层时,所述基材条由纸,纸素片材,纤维素片材,金属片材或塑料薄膜组成,为了使之具有防粘性能,掺入:
--原料组份A,B和C的至少一种,
--和/或当能够制备预混物时,预混物AB和/或AC和/或BC,
--或包含组份A,B和C的浴中,
→至少一种交联抑制剂D(特别是当使用通过氢化硅烷化进行交联的聚硅氧烷体系时),
→和/或至少一种粘结改善剂E,
→和/或至少一种其它组份F。
5.根据权利要求1-4任一项的方法,其特征在于,规定,将步骤1分解为如下:
--1’-组份A,B+可有可无的D和/或E和/或F的预混(步骤0);
--1”-然后,将预混物AB,ABD,ABDE,ABDEF,ABE,ABF,ABDF与化合物C进行均匀混合。
6.根据权利要求1-5任一项的方法,其特征在于,规定,以顺序和重复的方式,将计量量的组份A,B和C,以及可有可无的D和/或E和/或F引入预混部位,和/或引入用于混合C与其它组份的部位。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗狄亚化学公司,未经罗狄亚化学公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/00806516.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。