[发明专利]氟化聚合物,光刻胶和用于显微光刻的方法

权利要求书

1、光刻胶，包含：

(a)含氟聚合物，其包含从含有具有以下结构式的氟代醇官能团的至少一种烯属不饱和化合物衍生的重复单元：

-C(R_f)(R_f’)OH其中R_f和R_f’是相同或不同的1-10个碳原子的氟代烷基或者二者连在一起是(CF₂)_n，其中n是2-10；和

(b)至少一种光活性组分；

其中含氟聚合物在157nm的波长下具有低于4.0μm^-1的吸收系数。

2、权利要求1的光刻胶，进一步包含溶解抑制剂。

3、权利要求1的光刻胶，其中含氟聚合物具有在157nm波长下低于3.0μm^-1的吸收系数。

4、权利要求1的光刻胶，其中含氟聚合物进一步包含从含有具有下面结构式的官能团的至少一种烯属不饱和化合物衍生的重复单元：

-C(R_f)(R_f’)OR_a其中R_f和R_f’是相同或不同的1-10个碳原子的氟代烷基或者二者连在一起是(CF₂)_n，其中n是2-10，R_a是酸或碱不稳定保护基。

5、权利要求4的光刻胶，其中在含氟聚合物中的R_a是CH₂OCH₂R₅，以及R₅是氢或者1至10个碳原子的线型或支化烷基。

6、用于在基材上制备光刻胶影象的方法，依次包含：

(W)在基材上施涂光刻胶组合物，其中光刻胶组合物包含：

   (a)包含从至少一种烯属不饱和化合物衍生的重复单元的含

氟聚合物，该化合物含有具有以下结构式的氟代醇官能团：

     -C(R_f)(R_f’)OH

其中R_f和R_f’是相同或不同的1-10个碳原子的氟代烷基或者二

者连在一起是(CF₂)_n，其中n是2-10，和其中含氟聚合物具有

在157nm的波长下低于4.0μm^-1的吸收系数；

   (b)至少一种光活性组分；和

   (c)溶剂；

(X)干燥光刻胶组合物以基本上除去溶剂，从而在基材上形成了光刻胶层；

(Y)以成象方式曝光光刻胶层以形成成象和非成象区域；和

(Z)显影具有成象和非成象区域的已曝光过的光刻胶层以在基材上形成立体影象。

7、权利要求6的方法，其中以成象方式曝光使用具有157nm波长的紫外线辐射来进行。

8、权利要求6的方法，其中以成象方式曝光使用具有193nm波长的紫外线辐射来进行。

9、权利要求6的方法，其中在波长低于或等于365nm的成图案方式的紫外线辐射中曝光时，使曝光区域的光刻胶组合物变得可溶解于含水碱性显影剂。

10、权利要求6的方法，其中含氟聚合物进一步包含从含有具有下面结构式的官能团的至少一种烯属不饱和化合物衍生的重复单元：

 -C(R_f)(R_f’)OR_a其中R_f和R_f’是相同或不同的1-10个碳原子的氟代烷基或者二者连在一起是(CF₂)_n，其中n是2-10，R_a是酸或碱不稳定保护基。

11、权利要求10的方法，其中在含氟聚合物中的R_a是CH₂OCH₂R₅，以及R₅是氢或者1至10个碳原子的线型或支化烷基。