[发明专利]遮光结构

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于遮光的遮光装置，例如，涉及一种用于在具备可变焦距功能的照相机的多个镜筒之间遮光的遮光结构。

背景技术

常规地，利用构成象这种照相机的可变焦距镜头部或类似部的遮光结构的遮光密封，不会有强力施加到此密封本身，而且与油封或类似物相比，会以较低的速度和较不频繁地产生滑动。

做为常规所知的结构，例如有：(1)油性硅橡胶的遮光密封，(2)涂覆有聚四氟乙烯(PTFE)的硅橡胶遮光密封，(3)烤熔而凝结在金属配件上的油性硅橡胶的遮光密封，和(4)涂覆有聚四氟乙烯的烤熔而凝结在金属配件上的硅橡胶的遮光密封。

图11示出了第(4)种遮光密封。在图11中，遮光密封100是这样构成的：将一个密封唇部101与一个加强部102粘接，前者由一个涂覆有聚四氟乙烯的环构成，而后者由一个做为金属配件的金属环构成。

密封唇部101的密封孔的一端具有比镜筒200的外经稍小的直径。

这样，在使用中，镜筒200被插入密封孔中，密封唇部101呈L形变形，并利用自身的张力紧密地贴附在镜筒200上，从而在镜筒变焦时前后移入和移出时，能防止光线和灰尘进入密封孔，由此提供遮光性能和密封性能。

以这种方式，通过将密封唇部用油浸渍或涂覆聚四氟乙烯，而使常规的遮光密封的滑动阻力降低。

然而，在上述的常规技术的情况下，出现下列问题。

近年来，小型照相机已被微型化并实现多功能性。另一方面，小型照相机的电源的电量是有限的，这样对每一个单元都要降低用电量。

在这种情况下，利用常规的遮光密封，尽管采取了通过使遮光密封浸油或给它涂覆聚四氟乙烯这样的措施来降低滑动阻力，但其效果是有限的，这是由于镜筒和遮光密封间的滑动彼此为固体间接触。例如，即使采用上述第(4)种具有较低滑动阻力的遮光密封，每一件的滑动阻力也大到20至100gf。

由于遮光密封的滑动阻力如上所述那么大，所以在改变焦距过程中就要消耗较大的电量。

另一方面，在镜筒伸出和缩回时，由于用于装设遮光密封的空间根据镜筒的偏心量而改变，如果该偏心量大，若装设遮光密封的空间小，则遮光密封会被压坏；而若该空间大，则会产生一个间隙，这样即使整个遮光密封由橡胶制成，也会出现漏光。

这样，利用常规的遮光装置，即使要将遮光装置微型化，也需要在遮光密封的外径侧提供一个与偏心量相等或比之大的空间S，如图11所示。该遮光装置被构造成：如果镜筒是偏心的，这个空间S能吸收偏心量，以防破坏遮光密封的功能，如图12所示。

此外，在某些情况下，镜筒在分型面上有一个缝脊(分型线)，光会从此泄漏。

本发明设计成要解决常规技术中的上述问题。权利要求1记载的发明技术主题是提供一种遮光结构，它能降低滑动阻力，同时能改进遮光性能并还能节省空间。

权利要求2至4和14记载的发明技术主题是在权利要求1所述发明技术主题的基础上，提供一种遮光结构，它能为保持磁性流体提供更大的保持力，并能更可靠地遮光。

权利要求5记载的发明技术主题是在权利要求1所述发明技术主题的基础上提供一种遮光结构，它能为保持磁性流体提供更大的保持力并能有效地吸收误差——即使装配或类似误差存在于多个元件之间。

权利要求6记载的发明技术主题是在权利要求1所述发明技术主题的基础上，进一步提供一种能进一步提高遮光效果的遮光结构。

本权利要求7和8记载的发明技术主题是在权利要求1所述发明技术主题的基础上提供一种遮光结构，它能为保持磁性流体提供更大的保持力，并能更可靠地遮光。

权利要求9记载的发明技术主题是在权利要求1所述发明技术主题的基础上提供一种遮光结构，它能在具有多个镜筒的照相机的镜筒之间实现可靠的遮光。

本权利要求10记载的发明技术主题是在权利要求9所述发明技术主题的基础上，进一步提供一种其中镜筒易于制造的照相机镜筒的遮光结构。

权利要求11记载的发明技术主题是在权利要求9所述发明技术主题的基础上提供一种遮光结构，即使出现照相机镜筒的轴向中心上的误差，它也能有效地吸收这种误差。

权利要求12记载的发明技术主题是在权利要求10所述发明技术主题的基础上提供一种遮光结构，它能有效地防止灰尘从外面进入镜筒的内部。

权利要求13记载的发明技术主题是在权利要求9所述发明技术主题的基础上提供一种遮光结构，它在照相机镜筒向前或向后运动时，也能将磁性流体可靠地保持在磁力产生装置的位置处，而不让与镜筒接触的磁性流体流走。