[发明专利]在基板上生产光催化涂层的方法

权利要求书

1.一种生产光催化活性镀膜基板的方法，包括使基板表面与含有钛源和氧源的流体混合物接触，在基板表面上沉积氧化钛涂层，所述基板的温度至少为600℃，从而使基板的镀膜表面具有大于5×10^-3cm^-1min^-1的光催化活性，在镀膜侧测量的可见光反射率为35％或更低。

2.一种根据权利要求1的方法，其中，所述基板在625℃-720℃的温度范围内。

3.一种根据权利要求1或2的方法，其中，所述基板在645℃-720℃的温度范围内。

4.一种根据前面的权利要求的任一项的方法，其中，所述流体混合物包含作为钛源的氯化钛和除了甲酯以外的酯。

5.一种生产光催化活性镀膜基板的方法，包括使基板表面与含有氯化钛和除了甲酯以外的酯的流体混合物接触，在基板上沉积厚度小于40纳米的氧化钛涂层。

6.一种根据权利要求5的方法，其中，当所述基板温度在600-750℃范围内时，所述基板表面与流体混合物接触。

7.一种根据任意权利要求4-6的方法，其中，所述酯包括有带有β氢的烷基基团的烷基酯。

8.一种根据任意权利要求4-7的方法，其中，所述酯包括羧酸酯。

9.一种根据任意权利要求4-8的方法，其中，所述酯是有C₂-C₄烷基基团的烷基酯。

10.一种根据权利要求9的方法，其中，所述酯包括一种乙酯。

11.一种根据权利要求10的方法，其中，所述酯包括乙酸乙酯。

12.一种根据任意权利要求4-11的方法，其中，所述酯是流体混合物中的唯一氧源。

13.一种根据任意前述的权利要求的方法，其中，所述流体混合物是一种气体混合物。

14.一种根据任意前面的权利要求的方法，其中，所述方法在浮法玻璃生产过程中在线进行，所述基板是玻璃带。

15.一种根据权利要求14的方法，其中，所述方法在浮法槽中进行。

16.一种根据任意前面的权利要求的方法，其中，所述方法基本在大气压下进行。

17.一种生产耐久性光催化活性镀膜玻璃的方法，包括通过使温度在645-720℃范围内的基板表面与含有钛源的流体混合物接触，在玻璃基板表面上沉积光催化活性氧化钛层。

18.一种光催化活性镀膜基板，包括在其一个表面上有光催化活性氧化钛涂层的基板，特征在于所述基板的镀膜表面具有大于5×10^-3cm^-1min^-1的光催化活性，所述镀膜基板在镀膜侧测量的可见光反射率为35％或更低。

19.一种根据权利要求18的光催化活性镀膜基板，其中，所述基板的镀膜表面具有大于1×10^-2cm^-1min^-1的光催化活性。

20.一种根据权利要求19的光催化活性镀膜基板，其中，所述基板的 镀膜表面具有大于3×10^-2cm^-1min^-1的光催化活性。

21.一种根据任意权利要求18-20的光催化活性镀膜基板，其中，所述镀膜基板在其镀膜侧测量的可见光反射率为20％或更低。

22.一种根据权利要求21的光催化活性镀膜基板，其中，所述镀膜基板在其镀膜侧测量的可见光反射率为15％或更低。

23.一种根据任意权利要求18-22的光催化活性镀膜基板，其中，所述基板包括玻璃基板。

24.一种根据任意权利要求18-23的光催化活性镀膜基板，其中，所述镀膜基板在基板表面与光催化活性氧化钛涂层之间有碱金属离子阻挡底层。

25.一种根据权利要求24的光催化活性镀膜基板，其中，所述碱金属离子阻挡层是氧化硅层。