[发明专利]用于收集和会聚光的系统

权利要求书

1、一种装置，包括：

电磁辐射源；

待被由所述源发射的至少一部分电磁辐射照射的目标；

收集反射器，其具有一凹反射面和穿过该反射面形成的孔；和聚焦反射器，其具有一凹反射面和穿过该反射面形成的孔，所述收集和聚焦反射器被定位和定向为使得它们各自的凹反射面处于相对的、面对面的关系，

所述源被如此定位和定向，使得由该源发射的至少一部分电磁辐射穿过在所述聚焦反射器上形成的孔而到达所述收集反射器的所述凹反射面，所述收集反射器将入射在其上的至少一部分电磁辐射反射到所述聚焦反射器的所述凹反射面，所述聚焦反射器被构造和放置为使得由其凹表面反射的至少一部分电磁辐射被聚焦并穿过形成于所述收集反射器上的孔，所述目标被定位和定向以用于接收由所述聚焦反射器反射的且穿过形成于所述收集反射器上的孔的至少一部分被聚焦的电磁辐射。

2、根据权利要求1的装置，其中所述收集和聚焦反射器的所述凹反射面为抛物面形状。

3、根据权利要求1的装置，其中所述收集反射器具有一光轴和在所述光轴上的焦点，所述聚焦反射器具有一光轴和在所述光轴上的焦点，其中所述源位于紧邻所述收集反射器的所述焦点的位置，所述目标位于紧邻所述聚焦反射器的所述焦点的位置。

4、根据权利要求3的装置，其中所述收集和聚焦反射器的所述光轴相互重合并且延伸穿过在所述收集和聚焦反射器上形成的孔。

5、根据权利要求1的装置，还包括一关于所述源定位的回射器，用以将从所述源发射的沿离开在所述聚焦反射器上形成的孔的方向的辐射反射回到该穿过所述聚焦反射器所形成的孔。

6、根据权利要求1的装置，还包括置于所述收集和聚焦反射器之间的聚焦透镜，所述聚焦透镜被构造并放置为接收穿过在所述聚焦反射器上形成的孔的一部分电磁辐射，并且聚焦所接收的电磁辐射，使其穿过在所述收集反射器上形成的孔到达所述目标上。

7、根据权利要求6的装置，其中所述聚焦透镜可由以下材料制成：塑料、玻璃或者石英。

8、根据权利要求6的装置，其中所述聚焦透镜被涂覆有抗反射涂层。

9、根据权利要求6的装置，其中所述收集反射器具有一光轴和在所述光轴上的焦点，所述聚焦反射器具有一光轴和在所述光轴上的焦点，所述收集和聚焦反射器的所述光轴相互重合并且延伸穿过在所述收集和聚焦反射器上形成的孔，并且其中所述聚焦透镜的光轴与所述收集和聚焦反射器的光轴重合。

10、根据权利要求1的装置，其中所述目标包括波导的输入部分。

11、根据权利要求10的装置，其中所述波导包括光纤。

12、根据权利要求11的装置，其中所述波导包括被排列为光纤束的多个光纤。

13、根据权利要求10的装置，其中所述波导包括均质器。

14、根据权利要求13的装置，其中所述均质器具有圆形剖面形状。

15、根据权利要求13的装置，其中所述均质器具有多边形剖面形状。

16、根据权利要求15的装置，其中所述均质器的形状可以是三角形、矩形、五边形、六边形和八边形。

17、根据权利要求1的装置，其中所述电磁辐射源包括弧光灯。

18、根据权利要求17的装置，其中所述源包括可以为氙灯、金属卤化物灯、卤素灯、和水银弧光灯的弧光灯。

19、根据权利要求6的装置，还包括：

至少一个附加的收集发射器和相应数目的附加的聚焦反射器，每一个所述附加的收集和聚焦反射器在其上均形成有一孔，所述收集和聚焦反射器以相对的收集-聚焦反射器对被置于一公共光轴上；

至少一个附加的电磁辐射源，使得所述电磁辐射源的总数目对应于收集-聚焦反射器对的总数目；和

至少一个附加的聚焦透镜，使得所述聚焦透镜的总数目对应于收集-聚焦反射器对的总数目，每一个所述聚焦透镜被置于相关的一个所述收集-聚焦反射器对的相对的收集和聚焦反射器之间。