[发明专利]新的螺环化合物

权利要求书

1.下述通式(I)所示的化合物、其盐或酯：

其中Ar¹表示可被取代的芳基或杂芳基，取代基选自卤素、硝基、低级烷基、卤代(低级)烷基、羟基(低级)烷基、环(低级)烷基、低级链烯基、低级烷氧基、卤代(低级)烷氧基、低级烷硫基、羧基、低级烷酰基、低级烷氧羰基、被氧代基任意取代的低级亚烷基和式-Q-Ar²表示的基团；

Ar²表示可被取代的芳基或杂芳基，取代基选自卤素、氰基、低级烷基、卤代(低级)烷基、羟基(低级)烷基、羟基、低级烷氧基、卤代(低级)烷氧基、低级烷氨基、二-低级烷氨基、低级烷酰基和芳基；

n表示0或1；

Q表示单键或羰基；

T，U，V和W各自独立地表示氮原子或次甲基基团，该基团可有选自卤素、低级烷基、羟基和低级烷氧基的取代基，它们之中至少有两个基团表示所述的次甲基；

X表示次甲基基团或氮；

Y表示可被低级烷基取代的亚氨基，或氧。

2.权利要求1的化合物，其中Ar¹中的芳基是苯基。

3.权利要求1的化合物，其中Ar¹中的杂芳基是吡咯基，咪唑基，吡唑基，噻唑基，噁唑基，异噁唑基，1，2，3-三唑基，1，2，4-噻二唑基，吡啶基，吡嗪基，嘧啶基，1，2，4-三嗪基，苯并噁唑基，苯并噻唑基，喹啉基或吡啶并[3，2-b]吡啶基。

4.权利要求1的化合物，其中T，U，V和W各自独立地表示次甲基基团，该基团可有选自卤素、低级烷基、羟基和低级烷氧基的取代基。

5.权利要求4的化合物，其中T，U，V和W各自独立地表示可被卤素取代的次甲基基团。

6.权利要求1的化合物，其中T，U，V和W之一是氮。

7.权利要求1的化合物，其中Y是未取代的亚氨基或氧。

8.权利要求1的化合物，其中Y是氧。

9.权利要求1的化合物，该化合物是由通式(I-a)表示的化合物：

其中Ar¹表示可被取代的芳基或杂芳基，取代基选自卤素、硝基、低级烷基、卤代(低级)烷基、羟基(低级)烷基、环(低级)烷基、低级链烯基、低级烷氧基、卤代(低级)烷氧基、低级烷硫基、羧基、低级烷酰基、低级烷氧羰基、被氧代基任意取代的低级亚烷基和式-Q-Ar²表示的基团；

Ar²表示可被取代的芳基或杂芳基，取代基选自卤素、氰基、低级烷基、卤代(低级)烷基、羟基(低级)烷基、羟基、低级烷氧基、卤代(低级)烷氧基、低级烷氨基、二-低级烷氨基、低级烷酰基和芳基；

Q表示单键或羰基；

R¹表示氢原子或卤素。

10.权利要求9的化合物，其中Ar¹中的芳基是苯基。

11.权利要求9的化合物，其中Ar¹中的杂芳基是咪唑基，吡唑基，异噁唑基，1，2，4-噻二唑基，吡嗪基，嘧啶基，喹啉基或吡啶并[3，2-b]吡啶基。

12.权利要求1的化合物，该化合物是由通式(I-b)表示的化合物：

其中Ar¹表示可被取代的芳基或杂芳基，取代基选自卤素、硝基、低级烷基、卤代(低级)烷基、羟基(低级)烷基、环(低级)烷基、低级链烯基、低级烷氧基、卤代(低级)烷氧基、低级烷硫基、羧基、低级烷酰基、低级烷氧羰基、被氧代基任意取代的低级亚烷基和式-Q-Ar²表示的基团；

Ar²表示可被取代的芳基或杂芳基，取代基选自卤素、氰基、低级烷基、卤代(低级)烷基、羟基(低级)烷基、羟基、低级烷氧基、卤代(低级)烷氧基、低级烷氨基、二-低级烷氨基、低级烷酰基和芳基；

Q表示单键或羰基；

T，U，V和W各自独立地表示氮原子或次甲基基团，该基团可有选自卤素、低级烷基、羟基和低级烷氧基的取代基，它们之中至少有两个基团表示所述的次甲基。