[发明专利]在光波导中形成光栅的方法

权利要求书

1.一种在光波导中形成光栅的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

将一段所述光波导放入封闭结构中；

密封所述封闭结构，以形成一组件，使得所述一段光波导固定在所述组件中；和

在所述一段光波导的一部分中形成光栅。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述结构对于紫外光辐射是基本透明的。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述结构为掺硼石英玻璃。

4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，光波导包括光纤。

5.如权利要求2所述的方法，其特征在于，光波导包括平面波导。

6.如权利要求2所述的方法，其特征在于，光波导包括波导管。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，光波导是光敏的。

8.如权利要求4所述的方法，其特征在于，封闭结构一般是圆柱形管。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，组件保护所述一段光波导不受污染。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，形成光栅的步骤包括以下步骤：

将组件中所述一段光波导的一部分暴露于光化辐射中。

11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，紫外光包括基本上为240纳米的波长。

12.如权利要求10所述的方法，其特征在于，紫外光穿过石英缝隙。

13.如权利要求10所述的方法，其特征在于，紫外光穿过相位掩模。

14.如权利要求10所述的方法，其特征在于，在基本上25分钟的时间内，以基本上10Hz的重复率以脉冲输送紫外光。

15.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在形成光栅步骤之后，还包括以下步骤：

调节光栅，以改变光栅的光谱特征。

16.如权利要求15所述的方法，其特征在于，调节光栅的步骤包括使光栅受紫外光的泛光照射。

17.如权利要求15所述的方法，其特征在于，在调节光栅步骤之后，还包括以下步骤：

使光栅退火。

18.如权利要求17所述的方法，其特征在于，在光栅退火步骤之后，还包括以下步骤：

第二次调节光栅，以改变光栅的光谱特征。

19.如权利要求18所述的方法，其特征在于，第二次调节光栅的步骤包括使光栅受紫外光的泛光照射。

20.如权利要求19所述的方法，其特征在于，紫外光包括基本上为248纳米的波长。

21.如权利要求20所述的方法，其特征在于，在基本上5分钟的时间内，以基本上15Hz的重复率以脉冲输送紫外光。

22.如权利要求18所述的方法，其特征在于，在第二次调节光栅步骤之后，还包括以下步骤：

第二次将光栅退火。