[发明专利]涂敷的光学元件的形成方法

权利要求书

1.一种形成涂敷的光学元件的方法，该方法使用具有会形成光学元件前表面和后表面的第一和第二模具部分的模具，该模具部分之一具有铸造面，该方法包括如下步骤：

-涂敷第一涂料层以覆盖模具部分的铸造面，该铸造面能够在光学元件的表面上赋予所需的光学构造；

-处理第一涂料层以防止在随后步骤期间对第一涂料层的损害；

-向第一涂料层涂敷第二涂料层以基本覆盖第一涂料层；

-处理第二涂料层以提供第二涂料层对第一涂料层至少弱的粘合和防止在随后步骤期间对第二涂料层的损害；

-以有机液体材料填充模具；和

-硬化有机液体材料以形成粘合到第二涂料层上的光学元件。

2.根据权利要求1的方法，其中将第一涂料层涂敷到模具的铸造面上以完全覆盖铸造面。

3.根据权利要求1或2的方法，其中将处理每个涂料层进行到这样的程度，其中涂料层形成基本不溶的干燥膜，该干燥膜以基本无像差的方式完全复制模具的铸造面。

4.根据权利要求1-3中任意一项的方法，其中处理是至少部分固化。

5.根据权利要求4的方法，其中至少部分固化是通过将涂料层曝露在35-130℃的温度下1-30分钟的持续时间来进行的。

6.根据权利要求4的方法，其中涂料层包含不饱和单体，且该涂料层被固化直到它显示的不饱和程度为在固化之前它所拥有的不饱和的30-90％。

7.根据权利要求4的方法，其中涂料层包含不饱和单体，且该涂料层被固化直到它显示的不饱和程度为在固化之前它所拥有的不饱和的55-70％。

8.根据权利要求6或7的方法，其中固化由热引发剂引发，或用合适引发剂活化辐射引发，或由电子束辐射引发。

9.根据权利要求4的方法，其中涂料层是聚硅氧烷涂料层，包含部分水解和部分缩合的环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷或其它有机硅烷，和其中进一步促进其缩合以提供凝胶网络。

10.根据权利要求4的方法，其中涂料层是聚硅氧烷涂料层，包含部分水解和部分缩合的环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷或其它官能化有机硅烷，和其中通过聚硅氧烷有机组分的聚合形成凝胶网络。

11.根据权利要求10的方法，其中经有机组分的网络形成可以如下方式进行：例如使用阳离子引发剂通过环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷的环氧丙氧基部分的开环，或使用固化催化剂，固化甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷或烯丙基三甲氧基硅烷的烯部分，或通过使用阳离子或自由基引发剂。

12.根据权利要求1-3中任意一项的方法，其中处理是溶剂从涂料层的脱除。

13.根据权利要求12的方法，其中涂料层是聚硅氧烷涂料层，和通过使用热能以从中除去溶剂和水解产物来达到溶剂脱除，基本没有另外的缩合发生。

14.根据权利要求1-13中任意一项的方法，其中方法包括在有机液体材料的硬化之后，热后固化循环的另外步骤。

15.根据权利要求14的方法，其中热后固化循环足以保证涂料层的基本完全固化。

16.根据权利要求14或15的方法，其中涂料层的一个或多个是聚硅氧烷的，和其中热后固化循环包括在至多4小时内加热到90-120℃的温度，以基本完全缩合聚硅氧烷涂料层。

17.根据权利要求1-16中任意一项的方法，其中方法包括在第二涂料层上涂敷随后的层。

18.根据权利要求1-17中任意一项的方法，其中如需要，将光学元件进行随后的处理。

19.根据权利要求1-18中任意一项的方法，其中如需要，将光学元件随后以另外的涂料层涂敷。

20.根据权利要求1-19中任意一项的方法，其中由模具表面的表面改性促使涂料层对模具表面的粘合，这样的表面改性是硅烷处理或氟化学品处理的形式。