[发明专利]证实系统及方法有效
申请号: | 00814470.2 | 申请日: | 2000-08-08 |
公开(公告)号: | CN1399764A | 公开(公告)日: | 2003-02-26 |
发明(设计)人: | 安德鲁·A·科斯切夫斯基;加金德拉·D·萨万特;托马斯·P·扬森;乔安娜·L·扬森 | 申请(专利权)人: | 物理光学公司 |
主分类号: | G06K9/00 | 分类号: | G06K9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 刘晓峰 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 证实 系统 方法 | ||
1.一种证实系统其特征在于包括:
一个由目的物上携带的输入;
一个与输入作关处理的基准;和
一个相关器使输入相对于基准作相关处理以认定输入是否是证实的。
2.如权利要求1所述的证实系统,其特征是其中输入和基准中的一个包含一相容积掩模,所述的掩模具有很多对相容积结构。
3.如权利要求2所述的证实系统,其特征是每个结构的高宽展弦比至少是1∶1。
4.如权利要求3所述的证实系统,其特征是其中至少有许多结构的展弦比至少约为2∶1。
5.如权利要求2所述的证实系统,其特征是还包括一个覆盖每个结构的保护层。
6.如权利要求5所述的证实系统,其特征是保护层比结构更坚硬。
7.如权利要求6所述的证实系统,其特征是保护层中包含有钻石,钻石粉,或类钻石物质。
8.如权利要求6所述的证实系统,其特征是保护层中包含有反射物质。
9.如权利要求8所述的证实系统,其特征是其中的反射物质中含有铝。
10.如权利要求5所述的证实系统,其特征是其中还包括一填充剂叠合在每个结构上。
11.如权利要求10所述的证实系统,其特征是其中的填充剂覆盖住保护层。
12.如权利要求10所述的证实系统,其特征是其填充剂中包含有低折射率的物质,所述的物质对X射线不透明。
13.如权利要求10所述的证实系统,其特征是其填充剂中包含有一种物质能够阻挡至少60%的X射线辐射以及波长不大于18.4纳米的辐射不让所述的辐射穿过所述的物质到达结构。
14.如权利要求13所述的证实系统,其特征是其填充剂材料中包含有一种低折射率的环氧树脂。
15.如权利要求14所述的证实系统,其特征是其中的环氧树脂的折射率不大于约1.58。
16.如权利要求2所述的证实系统,其特征是其中每个结构的尺寸不大于6微米。
17.如权利要求16所述的证实系统,其特征是其中每个结构的尺寸不大于约1微米。
18.如权利要求2所述的证实系统,其特征是其中的结构是排列成随机模图。
19.如权利要求18所述的证实系统,其特征是其中的随机模图包括一个不规则的随机模图。
20.如权利要求19所述的证实系统,其特征是其中的不规则随机模图包括一斑纹模图。
21.如权利要求2所述的证实系统,其特征是其中的相容积掩模是设置成一个包含有(1)一个随机模图和(2)一个预定模图。
22.如权利要求21所述的证实系统,其特征是其中的预定模图包括一个生物统计学模图。
23.如权利要求22所述的证实系统,其特征是其中的生物统计学模图包括一个指纹,网膜模图,声频印记或一个面像图像。
24.如权利要求21所述的证实系统,其特征是其中的预定模图包括一个非生物统计学模图,所述模图不是随机的。
25.如权利要求24所述的证实系统,其特征是其中的预定模图是混含有随机模图的形成伪-随机模图。
26.如权利要求25所述的证实系统,其特征是其中的掩模包括一相混含掩模。
27.如权利要求2所述的证实系统,其特征是其中的掩模至少在掩模的表面面积的每平方厘米上有约一亿个结构。
28.如权利要求2所述的证实系统,其特征是其中的输入或基准中的一个包含有一个空间光调制器。
29.如权利要求28所述的证实系统,其特征是其中的空间光调制器包含一个具有象素阵列的液晶屏,每个象素的相可以作选择性的改变。
30.如权利要求29所述的证实系统,其特征是还包括一与液晶屏相连接的处理器以控制所说液晶屏每个单元的相。
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