[发明专利]用于半导体器件个性化的装置与方法

权利要求书

1.一种供设计与生产具有相同的功能但有一个芯片至芯片不同的芯片唯一信息例如系列号或隐藏的密匙的微电子器件用的方法，包括步骤：

通过光分步机使用一个掩模或标线板曝光所述微电子器件的至少一层，在同一工件或晶片上形成一个至少在两个单元芯片之间恒定的子图案，

通过使用光图案发生器曝光所述微电子器件同样的至少一层，形成一个至少在两个单元芯片之间可变的子图案，所述子图案包括所述芯片唯一信息。

2.根据权利要求1所述的方法，其中光分步机与光图案发生器使用相同的波长。

3.根据权利要求1所述的方法，其中光分步机与光图案发生器使用不同的波长。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中光分步机与光图案发生器为同一机器。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中光分步机与光图案发生器为不同的机器。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其中所述光图案发生器是一个计算机控制的标线板。

7.根据权利要求6的方法，其中所述计算机控制的标线板是一个空间光调制器(SLM)。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其中光图案发生器是一个模拟空间光调制器(SLM)，包括在以所述可变的子图案曝光微电子器件之前校正位置的附加步骤。

9.根据权利要求8所述的方法，其中位置校正包括步骤：

测量与正确位置相比的台位置误差，

通过一个卷积核卷积载入SLM的位映图，从而依照测量的位置误差选择或修正所述核以便校正所述位置误差。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的方法，其中所述恒定的与所述可变的子图案至少部分地同时曝光。

11.根据权利要求1-9中任一项所述的方法，其中所述恒定的与所述可变的子图案互相间连续曝光。

12.一种供在微电子或微光学器件上写入芯片唯一信息用的设备，其特征在于：

一个使用标线板投射的第一曝光系统，

一个使用空间光调制器投射的第二曝光系统。

13.根据权利要求12所述的设备，其中第二曝光系统包括一个模拟空间光调制器。

14.根据权利要求12或13所述的设备，其中第一与第二曝光系统使用相同的波长。

15.根据权利要求12或13所述的设备，其中第一与第二曝光系统使用不同的波长。

16.根据权利要求12-15中任一项所述的设备，其中它还包括一个供控制用于在微电子或微光学器件上写入芯片唯一信息的至少第二曝光系统用的控制系统。

17.根据权利要求16所述的设备，其中控制系统包括：

一个供开动包括器件的曝光场的曝光的第一曝光系统用的控制系统，

一个编译关于所述特定器件的编程信息的代码写入机控制系统，

与一个供建立一个待供给用于所述特定器件的空间光调制器(SLM)的硬件格式用的代码光栅化单元。

18.一种有一个芯片唯一代码或其它信息的微电子器件，其特征在于有许多层，至少一个所述层有一个由标线板曝光的恒定部分，与一个由图案发生器曝光的同一层上的可变部分。

19.一种供控制分步机在晶片上标记至少一个单元芯片用的控制系统，其特征在于：

一个开动包括该单元芯片的曝光场的曝光的分步机控制系统，

一个编译关于一个特定单元芯片的编程的信息的代码写入机控制系统，

与一个供建立一个待供给用于一个特定单元芯片的空间光调制器(SLM)的硬件格式用的代码光栅化单元。

20.一个供带有芯片唯一信息例如系列号或隐藏的密匙的芯片用的没计块，其特征在于它包括：

一个描述此设计块的恒定部分布局的布局块，

一个规定待写入的代码的类型与该代码的位置的控制块，

与一个数据块，此块的内容通过例如参考一个数据库或一个指令序列来描述。