[发明专利]石英基光波导及其制造方法

权利要求书

1.一种石英基光波导，包括一基片、一形成在该基片上的芯波导，和一外包层部分，该外包层部分包括其中添加了折射率降低掺杂剂和折射率提高掺杂剂的石英基玻璃，该外包层部分在基片上形成以盖住芯波导，其中在外包层部分与基片和芯波导相接触的部分上形成含有高浓度折射率提高掺杂剂的分隔层，从而使在分隔层中由该折射率提高掺杂剂提供的相对于该外包层部分中分隔层之外的部分的至少部分折射率提高，被因为在该分隔层中折射率降低掺杂剂的添加含量增加和/或其它折射率降低掺杂剂的添加而引起的折射率下降所抵消。

2.如权利要求1的石英基光波导，其中折射率提高掺杂剂是P₂O₅，折射率降低掺杂剂是B₂O₃，且其它折射率降低掺杂剂是氟。

3.如权利要求2的石英基光波导，其中分隔层中P₂O₅的添加浓度为1％重量比或更大以及15％重量比或更低，该分隔层厚度为1.5μm或更大以及5μm或更小。

4.如权利要求1-3中任一所述的石英基光波导，其中该基片与芯波导相接触的部分相对于该基片的其它部分被伸出为至少是分隔层的厚度。

5.一种石英基光波导的制造方法，包括如下步骤：

通过采用火焰水解沉积法在基片上聚集包括添加有折射率降低掺杂剂和P₂O₅的石英玻璃的玻璃微细颗粒，来形成多孔石英基玻璃层，其中该玻璃层在与基片和芯波导接触的部分上含有以P₂O₅高浓度分隔的分隔层，从而在使其上形成有矩形或方形横截面的芯波导的基片保持在500℃-700℃温度下的同时盖住芯波导，然后在氟气氛中加热该多孔石英基玻璃层，以利用氟分隔带来的折射率下降来抵消该分隔层中由于P₂O₅分隔产生的至少部分折射率提高，然后烧结该多孔石英基玻璃层，以提供透明玻璃化的外包层部分。

6.一种石英基光波导的制造方法，包括如下步骤：

通过采用火焰水解沉积法在基片上聚集包括添加有折射率降低掺杂剂和P₂O₅的石英玻璃的玻璃微细颗粒，来形成多孔石英基玻璃层，其中该玻璃层在与基片和芯波导接触的部分上含有以P₂O₅高浓度分隔的分隔层，从而在使其上形成有矩形或方形横截面的芯波导的基片保持在500℃-700℃温度下的同时盖住芯波导，同时通过调整用于折射率降低掺杂剂的材料气的供应量来使该分隔层中折射率降低掺杂剂的含量相对于其它部分提高，然后烧结该多孔石英基玻璃层，以提供透明玻璃化的外包层部分，其中利用折射率降低掺杂剂含量的提高带来的折射率下降来抵消该分隔层中由于P₂O₅分隔产生的至少部分折射率提高。

7.如权利要求5或6的石英基波导的制造方法，其中折射率降低掺杂剂是B₂O₃。

8.如权利要求5或6的石英基波导的制造方法，其中使其上形成有芯波导的基片保持在500℃-700℃温度下的操作包括以下步骤：将该基片用包含硅的夹持器夹持，将该夹持器放置在包含硅的转动工作台的一部分上，以便利用设置在该转动工作台下面的加热器进行加热。