[发明专利]MCM-48介孔分子筛的制备方法无效

专利信息
申请号: 01102823.8 申请日: 2001-01-09
公开(公告)号: CN1364729A 公开(公告)日: 2002-08-21
发明(设计)人: 孙予罕;王树国;吴东;钟炳;巩雁军 申请(专利权)人: 中国科学院山西煤炭化学研究所
主分类号: C01B39/04 分类号: C01B39/04
代理公司: 山西五维专利事务所(有限公司) 代理人: 李毅,魏树巍
地址: 030001*** 国省代码: 山西;14
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摘要:
搜索关键词: mcm 48 分子筛 制备 方法
【说明书】:

发明属于分子筛的制备方法,具体的说涉及一种MCM-48介孔分子筛的制备方法。

《自然》(Nature),1992年359期710页,美国Mobil公司首次报道M41S系列介孔分子筛,因其具有2-10nm的可调孔径、有序的孔道排列及高的表面积,在催化、吸附、分离等领域有良好的应用前景,引起了人们的广泛关注。MCM-48是M41S系列的一员,因其双螺旋形三维孔道结构,具有良好的传输性能而引起人们极大的兴趣。它的合成大多采用阳离子表面活性剂作模板剂在水热条件下进行。《材料化学》(Chem.Mater.)1994年第6期2317页报道MCM-48的合成通常需要较多的模板剂(表面活性剂/硅摩尔比在0.65~1.5),《高级材料》(Adv.Mater.)2000年12期359页认为MCM-48产率较低,一般在60%以下。

本发明的目的是提供一种高产率的MCM-48介孔分子筛的制备方法。

本发明的目的是这样实现的:在阳离子表面活性剂模板剂存在下,正硅酸酯碱性条件下水解缩合,在合成过程中调节pH值,获得高产率高质量的MCM-48介孔分子筛。

本发明制备MCM-48分子筛原料组成质量百分比为:

正硅酸乙酯7.9~18.9%,氢氧化钠0.75~1.63%,十六烷基三甲基溴化铵3.1~16.8%,水66.4~87.1%。

制备方法具体步骤如下:

(1)按原料组成质量百分比将3.1~16.8%的十六烷基三甲基溴化铵和0.75~1.63%的氢氧化钠溶解在66.4~87.1%的去离子水中,在强烈搅拌下缓慢加入正硅酸乙酯,继续搅拌反应30分钟后,转移至密闭反应器中;

(2)将密闭反应器中产物在80~150℃晶化1~3天后,加入HCl调节pH值到6~9,再在80~150℃继续晶化2天;

(3)将晶化产物经过滤、洗涤、晾干后,在550℃下焙烧6小时,得到MCM-48分子筛。

本发明的制备方法与现有的制备方法相比具有如下优点:

本发明的制备方法由于采用了调节pH值,使MCM-48的产率显著提高。当调节pH=7时,产率高达97%。BET比表面积达到1100m2/g,孔径2.6nm左右。

图1为实例2合成的MCM-48的XRD图谱;

图2为实例3合成的MCM-48的氮气吸附-脱附曲线;

图3为实例3合成的MCM-48的孔分布曲线。

实施例1

将2.04g CTAB、0.370g氢氧化钠溶解在20g去离子水中,在强烈搅拌下加入4.00g正硅酸乙酯(TEOS),继续搅拌反应30分钟后,转移至聚四氟乙烯瓶中。100℃晶化3天后,加入HCl调节pH=6,再在100℃晶化2天。过滤、洗涤、晾干,550℃下焙烧6小时,得到MCM-48介孔分子筛。产率97%。实施例2

将3.55g CTAB、0.380g氢氧化钠溶解在25g去离子水中,在强烈搅拌下加入4.20g正硅酸乙酯,继续搅拌反应30分钟后,转移至聚四氟乙烯瓶中。100℃晶化3天后,加入HCl调节pH=7,再在100℃晶化2天。过滤、洗涤、晾干,550℃下焙烧6小时,X-射线衍射(XRD,在D/max-rA衍射仪上进行测试,30kV,20mA,CuKα)表明,产品为典型的MCM-48介孔分子筛。产率97%。

实施例3

将3.05g CTAB、0.370g氢氧化钠溶解在25g去离子水中,在强烈搅拌下加入4.20g正硅酸乙酯,继续搅拌反应30分钟后,转移至聚四氟乙烯瓶中。120℃晶化2天后,加入HCl调节pH=8,再在120℃晶化1天。过滤、洗涤、晾干,550℃下焙烧6小时,得到MCM-48介孔分子筛。产率94%,氮气吸附(在ASAP2000-ASAP2000M组合型吸附仪上进行)测得BET比表面积1156m2/g,最可几孔径2.6纳米(由BJH方法对脱附曲线计算得到)。

实施例4

将4.07g CTAB、0.450g氢氧化钠溶解在30g去离子水中,在强烈搅拌下加入4.50g正硅酸乙酯(TEOS),继续搅拌反应30分钟后,转移至聚四氟乙烯瓶中。100℃晶化1天后,加入HCl调节pH=9,再在100℃晶化3天。过滤、洗涤、晾干,550℃下焙烧6小时,得到MCM-48介孔分子筛。产率85%,BET比表面积1137m2/g,最可几孔径2.6纳米。

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