[发明专利]具有光学反射膜的发光二极管无效
申请号: | 01104233.8 | 申请日: | 2001-02-26 |
公开(公告)号: | CN1372328A | 公开(公告)日: | 2002-10-02 |
发明(设计)人: | 曾坚信;郭政达;蔡文忠;庄惠雯;叶庭弼;张良肇;陈心如 | 申请(专利权)人: | 连威磊晶科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘朝华 |
地址: | 台湾*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 光学 反射 发光二极管 | ||
本发明涉及发光装置,特别是指一种具有光学反射膜的发光二极管。
众所周知,发光二极管为一种可发光的光电元件,一般发光二极管经P·N接合注入少数载体,使其与多数载体再结合,而成为发出自然光的二极管。P·N接面发光二极管的激发,是利用载体注入的机制发光,欲使发光二极管发光良好,必须有极多的电子-电洞对进行直接复合。当发光二极管施以顺向偏压后,空间电荷层变窄,基于两侧的费米能阶差异,所以P·N两侧的主要载体分别注入N侧及P侧。由于两侧的少数载体大量增加,使得两侧中大量进行电洞一电子对的再复合,故放出足够的光子数。
目前发光二极管的种类大致包含GaAs、GaAs1-XPx、GaP等系列。此外,在GaAs1-XPx、GaP系列中,掺杂氮原子,亦会改变其发光的颜色。由于发光二极管质量轻、体积小、发光效率优良,因此,可以利用其矩阵式的排列做为符号字幕显示或照明,亦可利用发光二极管做为光纤通讯的光源,也是光耦合器不可缺少的元件。
发光二极管将电能转换成光辐射,通常的操作机制是将载子注入元件的活化区。美国专利号为5,614,734,发明人为Guido揭露一种高效率的LED结构。此结构包含具有复数周期的distributed Bragg reflector(DBR)结构,每一周期包含第一能隙的第一膜层以及第二能隙的第二膜层。第一膜层具有较高的反射系数。发光二极管形成于DBR之上。一般,发光二极管具有单色性波长的特性,至于发光波长的长短,依据可发光的电子转移过程中能量变化而定,目前已经实用的波长包含红外、红、绿、黄、蓝等。
另,美国专利号为6,155,699,发明人为Miller等揭露一种具有DBR结构做为反射层的LED,发明名称为“Efficient phosphor conversion IedStructure。其主要缺陷在于:构造较复杂,且发光效率较低。
本发明的目的在于提供一种具有反射膜的发光二极管,克服现有技术的弊端,达到结构简单及提高发光效率的目的。
本发明的目的是这样实现的:一种具有光学反射膜的发光二极管,它包含基板,其特征在于:第一型态半导体形成于透光基板的第一表面;活性层形成于该第一型态半导体之上;第二型态半导体形成于该活性层之上;光学反射膜形成于第二型态半导体表面上。
该透光基板至少包含石英、玻璃、AI2O3、GaN、SiC、ZnSe、GaP、AIN其中之一或其任意组合。该第一型态半导体包含n型半导体膜层。该第二型态半导体包含P型半导体膜层。该光学反射膜为单层结构。该光学反射膜为多层结构。该光学反射膜为组成互异的材质交互重叠的多层结构。该光学反射膜为不同折射率材料所形成的多层结构。该光学反射膜为DBR结构的薄膜。该光学反射膜至少包含金属。该光学反射膜至少包含选自Au、Ag、Cu、Fe、Sn、Al、Be、Cr、Ge、Pd、Ni、Ti、Zn其中之一或其任意组合。该光学反射膜至少包含氮化物。该光学反射膜至少包含选自Ga、AI、In、As、P、Zn、Mg、Si中的一种或其任意组合。该光学反射膜至少包含氧化物。该光学反射膜至少包含选自Si、Ti、Ce、Zr、Mg、Zn、Ta、Th、F中的一种或其任意组合。该光学反射膜至少包含氟化物。该光学反射膜至少包含选自Si、Ti、Ce、Zr、Mg、Zn、Ta、Th、O中的一种或其任意组合。该光学反射膜包含下列材质中的一种或其任意组合:SiO2、ZnS、TiO、CeO2、MgF2、ThOF2。该光学反射膜包含下列材质中的一种或其任意组合:金属、氮化物、氧化物、氟化物。
本发明的主要优点是具有结构简单及提高发光效率的功效。因为光学反射膜形成于第二型态半导体表面之上,其将穿过透明基板的光反射,用以提升发光的效果。
下面结合较佳实施例和附图进一步说明。
图1为本发明的发光二极管的示意图。
参阅图1,本发明的发光二极管100包含有基板2,基板2为一透光基板,组成材质包含(但不限定于)石英、玻璃、AI2O3、GaN、SiC、ZnSe、GaP、AIN等材料。第一型态半导体如n型半导体膜层4形成于上述基板2的第一表面(或正面)上。一活性层6以及第二型态半导体,如P型半导体膜层8,依续堆叠形成于上述n型半导体膜层4。
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