[发明专利]新型吸收式低辐射膜玻璃

权利要求书

1.一种新型吸收式低辐射膜玻璃，其特征在于：对基板玻璃进行清洗、干燥后，进行预真空过渡，然后按下列膜层结构形式采用真空溅射镀制方法镀制各膜层：

A，玻璃/吸收层/电介质层(1)/保护层(1)/银层/保护层(2)/电介质层(2)；或者

B，玻璃/吸收层/电介质层(1)/银层/保护层(2)/电介质层(2)。

2.按权利要求1所述的新型吸收式低辐射膜玻璃，其特征在于：吸收层材料主要成分为金属或金属氧化物：钛、氮化钛、不锈钢、氮化不锈钢、铬、氮化铬等。

3.按权利要求1所述的新型吸收式低辐射膜玻璃，其特征在于：电介质层(1)和电介质层(2)，其主要材料为：金属氧化物：氧化锡、氧化锌、氧化钛、氧化锆、氧化铌，或氮化硅或高含硅量合金的氮化物，以及上述材料的复合层。其中高含硅量合金，是指硅含量在70％以上的合金。

4.按权利要求1所述的新型吸收式低辐射膜玻璃，其特征在于：保护层的主要材料为：镍或含镍量超过50％的高镍合金，(镍∶铬为80∶20的镍铬合金)，钛或含钛量超过80％的钛合金，铝或铝含量超过80％的铝合金。

5.按权利要求2所述的新型吸收式低辐射膜玻璃，其特征在于：吸收层材料采用金属吸收层材料钛、不锈钢、铬等材料的镀制方法为采用金属靶材料在纯氩气氛围中进行溅射，溅射气压范围2×10^-2mbar到3×10^-4mbar；采用金属氮化物吸收层材料氮化钛、氮化不锈钢、氮化铬等材料的镀制方法为采用金属靶材料在氮气氛围或氮氩混合气氛围中进行溅射，溅射气压范围2×10^-2mbar到3×10^-4mbar，溅射氮氩混合气比例为氮∶氩＝100∶0至0∶100。

6.按权利要求3所述的新型吸收式低辐射膜玻璃，其特征在于：金属氧化物，的镀制方法为采用金属靶材料在氧气氛围或氧氩混合气氛围中进行溅射，溅射气压范围2×10^-2mbar到3×10^-4mbar，溅射氧氩混合气比例为氧∶氩＝100∶0至50∶50。

7.按权利要求3所述的新型吸收式低辐射膜玻璃，其特征在于：氮化硅或高含硅量的氮化物的镀制方法为采用硅靶或高含硅量的靶材料在氮气氛围或氮氩混合气氛围中进行溅射，溅射气压范围2×10^-2mbar到3×10^-4mbar，溅射氮氩混合气比例为氮∶氩＝100∶0至60∶40。

8.如权利要求1所述的新型吸收式低辐射膜玻璃，其特征在于：所述银层的镀制方法为采用金属银或含银70％以上的高银合金靶材料在氩气氛围或氩氮混合气氛围中进行溅射，溅射气压范围2×10^-2mbar到3×10^-4mbar，溅射氩氮混合气比例为氩∶氮＝100∶0至0∶100。

9.按权利要求4所述的新型吸收式低辐射膜玻璃，其特征在于：保护层的镀制方法为采用金属或金属合金靶材料在氩气氛围或氩氮混合气氛围中进行溅射，溅射气压范围2×10^-2mbar到3×10^-4mbar，溅射氩氮混合气比例为氩∶氮＝100∶0至0∶100。

10.按权利要求1所述的新型吸收式低辐射膜玻璃，其特征在于：所述膜层结构吸收层/电介质层(1)/保护层(1)/银层/保护层(2)/电介质层(2)其各膜层厚度分别为：

吸收层的膜层厚度为2-100纳米。

电介质层(1)的膜层厚度为3-90纳米。

银层的膜层厚度为6-50纳米。

保护层(1)的膜层厚度为1-25纳米。

保护层(2)的膜层厚度为1-25纳米。

电介质层(2)的膜层厚度为20-120纳米。