[发明专利]工作波长193纳米投影光刻物镜无效
| 申请号： | 01108432.4 | 申请日： | 2001-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN1385727A | 公开（公告）日： | 2002-12-18 |
| 发明（设计）人： | 陈旭南;林妩媚;余国彬;罗先刚;杜春雷 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B13/22 | 分类号： | G02B13/22 |
| 代理公司： | 成都信博专利代理有限责任公司 | 代理人： | 张一红,王庆理 |
| 地址： | 61020*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 工作 波长 193 纳米 投影 光刻 物镜 | ||
【权利要求书】：
1、一种工作波长193纳米投影光刻物镜，包括外层的恒温密封外套(8)、中间层和内层，其特征在于：中间层由第一镜筒(6)和第二镜筒(10)用连接件连接而成，内层为十个光学透镜元件，以及分隔固定光学透镜元件的十个透镜框组件和光栏组件：从掩模(17)一侧起，依次是第一透镜(29)及第一透镜框组件(2)、第二透镜(30)及第二透镜框组件(3)、第三透镜(31)及第三透镜框组件(4)、第四透镜(32)及第四透镜框组件(5)、光栏组件(7)、第五透镜(33)及第五透镜框组件(9)、第六透镜(34)及第六透镜框组件(11)、第七透镜(35)及第七透镜框组件(12)、第八透镜(36)及第八透镜框组件(13)、第九透镜(37)及第九透镜框组件(14)、第十透镜(38)及第十透镜框组件(15)。
2、根据权利要求1所述的工作波长193纳米投影光刻物镜，其特征在于：数值孔径(NA)＝0.62，在2500对线/毫米，离焦±0.2微米时，传递函数(MTF)≥0.38，光刻分辨力(R)＝0.15微米。
3、根据权利要求1和2所述的工作波长193纳米投影光刻物镜，其特征在于：光学系统缩小倍率为20倍。
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