[发明专利]化学放大型正光刻胶组合物有效
申请号: | 01110230.6 | 申请日: | 2001-04-02 |
公开(公告)号: | CN1316675A | 公开(公告)日: | 2001-10-10 |
发明(设计)人: | 上谷保则;山田爱理;宫芳子;高田佳幸 | 申请(专利权)人: | 住友化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 胡交宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 大型 光刻 组合 | ||
1.一种化学放大型正光刻胶组合物,其特征在于含有具有下列聚合单元(A)、(B)和(C)的树脂,其本身不溶于碱,但通过酸的作用溶于碱;和产酸剂:
(A)至少一种脂环内酯的聚合单元,它选自由下式(Ia)和(Ib)表示的聚合单元:
其中每个R1和R2独立表示氢或甲基,n表示1-3;
(B)至少一种聚合单元,它选自下式(II)表示的3-羟基-1-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯的聚合单元,下式(III)表示的单元和衍生于选自马来酸酐和衣康酸酐的不饱和二羧酸酐的单元组合的聚合单元,和下式(IV)表示的(α)β-(甲基)丙烯酰氧-γ-丁内酯的聚合单元:其中R3和R7表示氢或甲基,R4表示氢或羟基,每个R5和R6独立表示氢,具有1-3个碳原子的烷基,具有1-3个碳原子的羟基烷基,羧基,氰基,或-COOR7基团,其中R7表示醇残基,或者R5和R6一起形成由-C(=O)OC(=O)-表示的羧酸酐残基,
(C)通过由于酸的作用使部分基团裂解而变为在碱中可溶的聚合单元。
2.按照权利要求1的化学放大型正光刻胶组合物,其中通过酸的作用使部分基团裂解而变为在碱中可溶的聚合单元(C)为衍生于2-烷基-2-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯的聚合单元。
3.按照权利要求2的化学放大型正光刻胶组合物,其中2-烷基-2-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯为2-乙基-2-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯。
4.按照权利要求1的化学放大型正光刻胶组合物,其中该树脂的制备通过从其衍生出聚合单元(A)的单体、从其衍生出聚合单元(B)的单体、和从其衍生出聚合单元(C)的单体进行共聚得到,其中从其衍生出聚合单元(A)的单体的量为5-50%摩尔,从其衍生出聚合单元(B)的单体的量为10-80%摩尔,从其衍生出聚合单元(C)的单体的量为10-80%摩尔,基于共聚中使用的所有单体总量。
5.按照权利要求1的化学放大型正光刻胶组合物,其中还进一步含有猝灭剂。
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