[发明专利]金属表面处理剂、金属材料的处理方法及表面处理金属材料

权利要求书

1．一种金属表面处理剂，其特征在于含有分子中具有共振构造的有机化合物，且由亲电子反应性的官能基(a1)、及磷酸基、膦酸基、硅醇基、烷氧基甲硅烷基、硫醇基及锍基选出的至少一种官能基(a2)选出的至少一种官能基(a)的有机化合物(A)。

2．如权利要求1所述的金属表面处理剂，其特征在于所述的有机化合物(A)为芳香族化合物。

3．如权利要求1或2所述的金属表面处理剂，其特征在于所述的官能基(a1)为以下述一般式(1)

-CH₂X    (1)

(式内，X表示-OR¹、-NR²R³、-N+R⁴R⁵R⁶A-或卤原子，R¹～R⁶表示相互独立的氢原子，碳数1～5直链烷基或碳数1～5之直链或枝链羟基烷基，A-表示氢氧离子或酸离子)表示的前述共振构造直接键结的基，或以下述一般式(2)

-ψ-CH₂X(2)

(式内，ψ为具有供应电子性诱导效果之基)表示的基。

4．如权利要求1至3所述的金属表面处理剂，其特征在于所述的有机化合物(A)系下述一般式(Ⅰ)、(Ⅱ)、或(Ⅲ)

(于一般式(Ⅰ)、(Ⅱ)、或(Ⅲ),ψ表示共振混成构造，Y由-ORa⁹、-Ra⁹、-Oa及-a选出，在此R⁹为碳数1～5直链或枝链伸烷基、碳数1～5直链或枝链羟基烷基或聚合度1～10的聚环氧伸烷基(各伸烷基为碳数1～5直链或枝键伸烷基)，a为亲电子反应性官能基(a1)，及磷酸基、膦酸基、硅醇基、烷氧基甲硅烷基、硫醇基及锍基选出的至少一种官能基(a2)选出的至少一种官能基(a),R⁷为碳数1～5直链或枝链伸烷基，碳数1～5直链或枝链羟基伸烷基或聚合度1～10的聚环氧伸烷基(各伸烷基为碳数1～5直链或枝键伸烷基)；

R⁸为氢原子或甲基；

n1为0或1～30整数，n2为1～15整数，n3为3～100整数，m1为0或1～7整数，m2为0或1～7整数，m3为1～7整数，p为0或1～30整数，n3/(n3+p)=0.6～1.0；

Z为与以n3括住的构造不同的具有乙烯性双键键结的化合物的乙烯性双键键结可开启的基)。

5．如权利要求1至4所述的金属表面处理剂，其特征在于由有含由钒、锆、钛、钼、钨、锰及铈而成立群体选出的至少一种金属的金属化合物(B)。

6．如权利要求1至5所述的金属表面处理剂，其特征在于溶液或分散状态含有重量平均分子量1,000～1,000,000的有机高分子(C)。

7．如权利要求1或6所述的金属表面处理剂，其特征在于含有蚀刻剂。

8．一种金属材料的处理方法，其特征在于以权利要求1至7所述的任一项金属表面处理剂处理金属材料表面后并予加热干燥至前述材料的温度成50～250℃。

9．一种表面处理金属材料，其特征在于采用权利要求8所述的处理方法所形成的被膜。