[发明专利]具有双极型晶体管的高频功率放大器无效

专利信息
申请号: 01111800.8 申请日: 2001-03-28
公开(公告)号: CN1318898A 公开(公告)日: 2001-10-24
发明(设计)人: 森冢宏平 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H03F3/21 分类号: H03F3/21;H03F1/30
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 马浩
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 双极型 晶体管 高频 功率放大器
【权利要求书】:

1.一种高频功率放大器,该高频功率放大器包括:

多个晶体管块,各所述晶体管块具有双极型晶体管;

其中各所述晶体管块进一步包括:

基准电压产生电路,用于产生作为所述双极型晶体管基极偏置的基准电压; 

偏置产生电路,被连接到所述双极型晶体管的基极,所述偏置产生电路通过转换所述基准电压产生基极偏置电压;以及

电容器,用于进行高频输入,所述电容器被连接到所述双极型晶体管的基极。

2.根据权利要求1所述的高频功率放大器,其中各所述晶体管块进一步包括与所述双极型晶体管的发射极相连的电阻。

3.根据权利要求1所述的高频功率放大器,

其中所述偏置产生电路进一步包括的组成部分包括,在用于将作为所述双极型晶体管的基极偏置的所述基准电压转换到低阻抗的电路与所述双极型晶体管的基极端之间设置的电阻,设置基极端用于阻止高频。

4.根据权利要求1所述的高频功率放大器,

其中所述偏置产生电路进一步包括的组成部分包括:

第二双极型晶体管,基极被连接到基极偏置基准电压而集电极被连接到DC电源;以及

电阻,设置到所述第二双极型晶体管的发射极与所述双极型晶体管的基极端之间,所设置的电阻用于阻止高频。

5.根据权利要求1所述的高频功率放大器,

其中所述基准电压产生电路具有承受直流偏置的二极管,并根据温度变化将基极偏置电压施加到各所述晶体管块。

6.根据权利要求1所述的高频功率放大器,

其中承受直流偏置的二极管与所述双极型晶体管相邻。

7.根据权利要求1所述的高频功率放大器,

其中用于高频输入的所述电容器为与所述双极型晶体管的基极端连接点和所述电阻相连的金属绝缘体金属电容器。

8.根据权利要求7所述的高频功率放大器,

其中所述金属绝缘体金属电容器被连接到高频电源。

9.根据权利要求1所述的高频功率放大器,

其中在各所述晶体管块内设置由发射极输出器电路构成的所述偏置产生电路,并将作为基极偏置的基准电压施加到发射极输出器电路的基极输入端。

10.一种高频功率放大器,该高频功率放大器包括:

多个晶体管块,各所述晶体管块具有双极型晶体管;以及

基准电压产生电路,用于产生作为所述双极型晶体管基极偏置的基准电压;

其中各所述晶体管块进一步包括:

偏置产生电路,被连接到所述双极型晶体管的基极,所述偏置产生电路通过转换所述基准电压产生基极偏置电压;以及

电容器,用于进行高频输入,所述电容器被连接到所述双极型晶体管的基极。

11.根据权利要求10所述的高频功率放大器,

其中各所述双极型晶体管块进一步包括与所述双极型晶体管的发射极相连的电阻。

12.根据权利要求10所述的高频功率放大器,

其中所述偏置产生电路进一步包括:

第二双极型晶体管,基极被连接到作为基极偏置的基准电压而集电极被连接到DC电源;以及

电阻,设置到所述第二双极型晶体管的发射极与所述双极型晶体管的基极端之间,所设置的所述电阻用于阻止高频。

13.根据权利要求10所述的高频功率放大器,

其中所述基准电压产生电路包括承受直流偏置的二极管,并根据温度变化将基极偏置电压施加到所述晶体管块

14.根据权利要求10所述的高频功率放大器,

其中承受直流偏置的所述二极管与所述双极型晶体管相邻。

15.根据权利要求10所述的高频功率放大器,

其中用于高频输入的所述电容器为与所述双极型晶体管的基极端连接点和所述电阻相连的金属绝缘体金属电容器。

16.根据权利要求15所述的高频功率放大器,

其中所述金属绝缘体金属电容器被连接点高频电源。

17.根据权利要求10所述的高频功率放大器,

其中将由发射极输出器电路构成的所述偏置产生电路设置到各所述晶体管块,并且将作为基极偏置的基准电压施加到发射极输出器电路的基极输入端。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/01111800.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top