[发明专利]磁头及其制造方法,以及磁性记录和/或再现系统无效
申请号: | 01111867.9 | 申请日: | 2001-03-22 |
公开(公告)号: | CN1315723A | 公开(公告)日: | 2001-10-03 |
发明(设计)人: | 與田博明;大泽裕一;船山知己 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G11B5/127 | 分类号: | G11B5/127;G11B5/23 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 杨晓光 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁头 及其 制造 方法 以及 磁性 记录 再现 系统 | ||
1.一种磁头,包括:
一对磁体,它们包括各自的第一和第二面对介质表面、与该面对介质表面相对的各自的第一和第二后表面、以及各自的内侧表面,该内侧表面相互面对;以及
一个磁隙,其位于该内侧表面之间,并且包括与第一和第二介质面对表面共面的第三面对介质表面以及与第一和第二后表面共面的第三后表面;其中一个内侧表面满足如下关系:
x=G1/2 对于0≤y≤TH,以及
0.1·tan{2(x-G1/2)}+TH≤y≤5·tan(2(x-G1/2))+TH对于TH≤y
其中x表示这个内侧表面的X座标,并且y表示这个内侧表面的Y座标,X轴从第三面对介质表面的中心向着第一或第二面对介质表面的中心延伸,Y轴从第三面对介质表面的中心向着第三后表面延伸,Y轴基本上与X轴垂直,并且G1和TH分别表示常数。
2.根据权利要求1所述的磁头,其中随着x从一点x=G1/2开始连续增加,y从一点y=TH到第一或第二后表面连续变化。
3.根据权利要求1所述的磁头,其中该对磁体可以包括在磁隙的两侧上的第一或第二面对介质表面上的软磁性材料的凸出部分。
4.根据权利要求1所述的磁头,其中该对磁体是磁轭,并且该磁头包括设置在第一和第二后表面上并被置于磁隙上方的磁阻效应元件。
5.根据权利要求1所述的磁头,其中该对磁体是磁芯,并且该磁头进一步包括:位于第一和第二后表面上并置于磁隙上方的软磁性材料的一个后轭,以及形成在该磁隙中的一个记录线圈。
6.一种磁性记录头,其中包括:
一对磁体,其间由一个磁隙分开并且它们包括各自的面对介质表面和与面对介质表面相对的各自的后表面,该对磁体中的一个包括一个凸出部分,该凸出部分向着面对介质表面逐渐变细;
设于该磁隙中的一个记录线圈;以及
被置于该后表面上并被置于该磁隙上方的一个软磁性材料后磁体。
7.一种磁性再现头包括:
一对磁体,其间由一个磁隙分开,并且它们包括各自的面对介质表面和与面对介质表面相对的各自的后表面,该对磁体中的一个包括一个凸出部分,该凸出部分向着面对介质表面逐渐变细;以及
被设置于后表面上并被置于磁隙上方的磁阻效应元件。
8.一种磁头制造方法,其中包括:
在一个基底上形成一个磁体,该磁体包括一个面向基底的主平面以及与主平面相对的一个后平面;
把射束施加到该磁体的后平面上,并形成确定从该后平面向主平面延伸的一个通孔的一个部分;
在该通孔中形成一个磁隙;以及
从该基底上分离出磁体和磁隙,并且形成基本上与主平面共面的面对介质表面。
9.根据权利要求8所述的磁头制造方法,其中该射束为聚焦的离子束。
10.一种用于制造磁头的方法,其中包括:
在一个基底上形成一个绝缘膜;
沿着向着该基底的方向把聚焦的离子束施加到该绝缘膜上并且在该绝缘膜中形成确定第一和第二沟道的一个部分;
在第一和第二沟道中填充磁性材料以形成一对磁体;
在该对磁体之间的绝缘膜中形成一个记录线圈;以及
在该对磁体和记录线圈上形成一个第二磁体。
11.一种磁性再现系统,其中包括权利要求4中所述的磁头作为再现头。
12.一种磁性记录系统,其中包括权利要求5中所述的磁头作为再现头。
13.一种磁性记录系统,其中包括权利要求6中所述的磁性记录头。
14.一种磁性再现系统,其中包括权利要求7中所述的磁性再现头。
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