[发明专利]点接式低辐射镀膜中空玻璃的生产工艺无效

专利信息
申请号: 01112932.8 申请日: 2001-05-18
公开(公告)号: CN1327959A 公开(公告)日: 2001-12-26
发明(设计)人: 孙大海;黄从越;谢丽美;楼君杨;俞德荣;孙宾;张晓雷 申请(专利权)人: 上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司
主分类号: C03C27/12 分类号: C03C27/12;C03C17/00;B32B17/00
代理公司: 上海东亚专利事务所 代理人: 罗习群
地址: 20012*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 点接式低 辐射 镀膜 中空玻璃 生产工艺
【说明书】:

发明涉及一种点接式低辐射镀膜中空玻璃的生产工艺,属建筑材料领域。

点接式玻璃幕墙是九十年代初由英国皮尔金顿建筑公司率先投入设计使用的一种新型全玻璃幕墙。与常见的玻璃幕墙相比较,这种结构十分独特。点接式建筑玻璃幕墙是在玻璃板的四角或其它部位钻2-8个孔以后,通过固定在孔中的金属接驳器与支承体系相连接的一种无框架全玻璃幕墙结构。点接式玻璃幕墙结构以新颖的点接式支撑结构,代替了传统玻璃幕墙的四边支撑或两边支撑结构。幕墙玻璃在受到荷载后,通过埋在玻璃孔中的金属接驳件传递到主体支撑结构上。由于没有金属框架的遮挡,点接式玻璃幕墙结构利用玻璃优良的光学特性,使整个建筑物结构玲珑剔透、浑然一体,可以充分展现现代化建筑的美感。点接式玻璃幕墙采用在四角或其它部位打孔的玻璃深加工制品,称为点接式幕墙玻璃。

中空玻璃是一种玻璃深加工产品,由两片或多片透明玻璃或镀膜玻璃进行合片加工而成。其玻璃单片之间夹有填充了干燥剂的铝合金隔框,铝合金隔框与玻璃单片间用丁基胶粘结密封后再用聚硫胶或结构胶密封。因为空气的热传导率非常低,只有普通玻璃的1/27,干燥的空气被密封在两层玻璃单片之间,所以中空玻璃能有效地直接隔断热量传导流失,从而达到节能、防结露等效果。

Low-E(低辐射镀膜,下同)玻璃是另一种玻璃深加工产品,又称低辐射玻璃。Low-E玻璃是利用了磁控真空溅射的方法,在玻璃的表面镀金属银层,使玻璃辐射率从0.84降到0.04~0.12。同时Low-E玻璃具有较好的光谱选择性,在大量通过可见光的基础上,能阻挡相当部分红外线进入室内,特别是远红外线几乎完全被其反射回去而不透过玻璃,即保持了室内光线明亮,又在一定程度上减少了室内的热负荷,Low-E玻璃还可以大幅度降低玻璃的紫外线透过率,可防止有机物老化、织物褪色等问题。

点接式Low-E中空玻璃结合了Low-E玻璃、中空玻璃和点接式玻璃结构的优点。采用了点接式Low-E中空玻璃的幕墙结构,可以使建筑物既具有最大限度的光通透性和最佳的视觉效果;同时具有良好的隔热保温、防结露和隔声效果,其热阻性能可以比普通中空玻璃提高一倍以上,是一种非常有使用价值的新型节能玻璃,但是这种玻璃的生产工艺存在有下列问题:

对玻璃的切割、磨边和钻孔精度无法保证,从而影响产品的质量,生产过种中,低辐射镀膜玻璃的孔口去膜不易解决,另外,对中空玻璃涂丁基胶以及孔口注第二道密封胶工艺存在问题。

本发明目的在于设计一些专用生产器具,解决生产过种中低辐射玻璃孔口去膜工艺,以及对中空玻璃涂丁基胶和孔口注第二道密封胶工艺存在的问题,同时提出保证对玻璃的切割、磨边和定位精度的工艺。

本发明是这样实现的,采用切割定位和加工中心定位工艺相结合方法,利用切割机以玻璃切割图形的中心线为基准定出孔位,先进行玻璃的切割、磨边,再在定出的孔位上进行钻孔,在玻璃进行磁控溅射镀膜工艺中采用专用器具去除玻璃孔口边的镀膜,在密封工艺中,采用专用器具涂胶密封,在合片工艺中,采用专用器具定位;其中:1、切割、磨边、钻孔定位工艺:

由于点接式中空幕墙玻璃安装的特殊性,其对玻璃加工的尺寸精度要求较高,对切割、磨边、钻孔定位要求更高。原先在单片玻璃钻孔时采用的人工划线定位方法已不能满足点接式玻璃钻孔的进度要求。因此,采用了切割定位和英特玛克加工中心定位工艺相结合的方法。

利用切割机定位是以玻璃切割图形的中心线为基准线定出孔位。切割机定位加工流程是:原片切割(包括:钻孔定位)→采用模板等工具划孔边线→钻孔机钻孔→磨边→清洗机清洗→玻璃钢化和镀膜

英特玛克加工中心定位是以相邻的两条边为基准边逐步定出各个孔位。INTERMAC加工中心定位加工流程是:原片切割→磨边→清洗机清洗→加工中心定位→钻孔机钻孔→清洗机清洗→玻璃钢化和镀膜。2、去膜工艺:

在生产Low-E中空玻璃的过程中,通常需要将Low-E玻璃边部的10至15mm宽度的膜层用去膜机清除掉,这主要是为了防止离线低辐射膜的边缘部位被氧化,使Low-E玻璃丧失其节能功效。在点接式Low-E中空玻璃的制作中,除了Low-E玻璃的边部要去膜外,其孔口部位10至15mm宽度的圆周也要去膜,而孔口边的去膜是无法用常规去膜机来完成的。

本发明采用的孔口去膜工艺关键是:根据玻璃孔径的尺寸,专门制作一种尼龙的圆形器具,使玻璃在进行磁控溅射镀膜过程中,孔边10~15mm的宽度内无法生成Low-E薄膜,从而达到自然去膜的目的。3、密封工艺:

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