[发明专利]卤化银照相乳剂和卤化银照相材料无效

专利信息
申请号: 01115707.0 申请日: 2001-04-29
公开(公告)号: CN1322965A 公开(公告)日: 2001-11-21
发明(设计)人: 中村哲生;日置孝德 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03C1/08 分类号: G03C1/08
代理公司: 北京市专利事务所 代理人: 鲁兵,王初
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 卤化 照相 乳剂 材料
【权利要求书】:

1、含有至少两种由下式(Ⅰ)表示的增感染料的卤化银照相乳剂: Dye - ( ( A ) r Q ) q ( M ) m - - - ( I ) ]]>

其中Dye表示染料结构部分;A表示连接基团;Q表示可离解基团;r表示0或1;q表示2或2以上的整数,条件是至少一个Q表示-SO3H和至少一个Q表示除-SO3H以外的可离解基团;M表示抗衡离子;m表示中和该分子中的电荷所需的0或0以上的数值,当m表示2或2以上时,这些M不需要是相同的。

2、权利要求1所要求的卤化银照相乳剂,其中除-SO3H以外的可离解基团选自-COOH,-CONHSO2R,-SO2NHCOR,-SO2NHSO2R,-CONHCOR,-OSO3H,-PO(OH)2,-OPO(OH)2,-B(OH)2,-OB(OH)2,-ArOH,和-ArSH,其中R表示烷基,芳基,杂环基,烷氧基,芳氧基杂环氧基或氨基,Ar表示亚芳基。

3、权利要求1所要求的卤化银照相乳剂,其中所述增感染料是花青染料。

4、权利要求1所要求的卤化银照相乳剂,其中所述增感染料由下式(Ⅱ)表示:

其中R1和R2各表示取代的烷基、芳基或杂环基,R1用-SO3H取代和R2用除-SO3H以外的可离解基团取代;Y1和Y2各表示形成5-或6-元含氮杂环所需的原子基团,Y1和Y2可用其它碳环或杂环稠合;V1和V2各表示取代基;n1和n2各表示0或0以上的整数,当n1和n2各表示2或2以上时,V1和V2可以彼此相同或不同;L1、L2、L3、L4、L5、L6和L7各表示次甲基;p1表示0、1、2或3,p2和p3各表示0或1,当p1表示2或3时,重复的L2和L3可以彼此相同或不同;M1表示抗衡离子;m1表示中和该分子中电荷所需的0或0以上的数值。

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