[发明专利]记录介质以及用于制造该介质的设备和方法有效
申请号: | 01115793.3 | 申请日: | 2001-07-04 |
公开(公告)号: | CN1337689A | 公开(公告)日: | 2002-02-27 |
发明(设计)人: | 加藤正浩;村松英治;山口淳;谷口昭史 | 申请(专利权)人: | 先锋株式会社 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/26 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 韩宏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 介质 以及 用于 制造 设备 方法 | ||
1、一种记录介质,包括:
并排地设置且周期性地弯曲的凹槽轨道和着陆轨道对;
预先形成在所述着陆轨道上且携带有关该凹槽轨道信息的多个着陆-预先凹坑;以及
形成在至少该凹槽轨道和着陆轨道上的记录层,
所述着陆-预先凹坑的平均曲率半径小于没有着陆-预先凹坑的区域内的所述凹槽轨道的边的平均曲率半径,并由从所述凹槽轨道的边连续延伸的弯曲表面定义,
面对所述着陆-预先凹坑的连续弯曲表面的所述凹槽轨道的这些边是限制凹槽轨道的弯曲表面。
2、按照权利要求1的记录介质,其中所述的凹槽轨道具有第-幅度的边,并且所述的着陆-预先凹坑具有比所述第一幅度更大的第二幅度的边。
3、按照权利要求1的记录介质,其中所述的着陆-预先凹坑与相邻的凹槽轨道分开布置。
4、按照权利要求1的记录介质,其中沿切线-轨道方向的所述着陆-预先凹坑的长度和沿垂直于所述的切线-轨道方向的方向的所述着陆-预先凹坑的宽度被设置为这样的值,即这些值允许通过所述着陆-预先凹坑从所述凹槽轨道再现的信息信号的偏移值小于一个预定值并且所述着陆-预先凹坑的信号值位于一个预定的范围内。
5、按照权利要求4的记录介质,其中所述的预定值是0.05并且所述的预定范围是0.18-0.27。
6、一种用于制造记录介质的方法,其中所述的记录介质具有并排地设置且周期性地弯曲的凹槽轨道和着陆轨道对、预先形成在该着陆轨道上且携带有关该凹槽轨道信息的多个着陆-预先凹坑以及形成在至少该凹槽轨道和着陆轨道上的记录层,所述的方法包括步骤:
形成所述的凹槽轨道,这些轨道通过在形成于所述的记录头版上的光阻层上照射一个切割光束斑而延伸,其中该光斑是相对于记录头版移动的;以及
沿着垂直于所述凹槽轨道延伸的方向移动所述切割光束斑,将所述移动光斑返回到所述的凹槽轨道应被延伸的位置,由此形成具有由连续地从所述的凹槽轨道边延伸的弯曲表面定义的边的所述着陆-预先凹坑,以及制造这些面向所述的着陆-预先凹坑的所述边的凹槽轨道的边,其中这些着陆-预先凹坑具有限制所述的凹槽轨道的弯曲表面。
7、按照权利要求6的方法,其中所述的着陆-预先凹坑的边的平均曲率半径小于在没有所述的着陆-预先凹坑的区域内的凹槽轨道的边的曲率半径。
8、按照权利要求6的方法,其中在形成所述凹槽轨道的所述步骤中使所述光斑以第一幅度摆动,以及在形成限制所述的凹槽轨道弯曲边和定义所述的着陆-预先凹坑的弯曲边的步骤中使所述的光斑以大于第一幅度的第二幅度摆动。
9、按照权利要求6的方法,其中沿切线-轨道方向的所述着陆-预先凹坑的长度和沿垂直于所述的切线-轨道方向的方向的所述着陆-预先凹坑的宽度被设置为这样的值,即这些值允许通过所述着陆-预先凹坑从所述凹槽轨道再现的信息信号的偏移值小于一个预定值并且所述着陆-预先凹坑的信号值位于一个预定的范围内。
10、按照权利要求9的方法,其中所述的预定值是0.05并且所述的预定范围是0.18-0.27。
11、一种用于制造记录介质的设备,其中所述的记录介质具有并排地设置且周期性地弯曲的凹槽轨道和着陆轨道对,预先形成在该着陆轨道上且携带有关该凹槽轨道信息的多个着陆-预先凹坑,以及形成在至少该凹槽轨道和着陆轨道上的记录层,所述设备包括:
用于形成所述凹槽轨道的轨道形成部分,这些轨道通过在形成于所述的记录头版上的光阻层上照射一个切割光束斑而延伸,其中该光斑是相对于记录头版移动的;以及
着陆-预先凹坑形成部分,用于沿着垂直于所述凹槽轨道延伸的方向移动所述切割光束斑,将所述移动光斑返回到所述的凹槽轨道应被延伸的位置,由此形成具有由连续地从所述的凹槽轨道边延伸的弯曲表面定义的边的所述着陆-预先凹坑,以及制造这些面向具有限制所述的凹槽轨道的弯曲表面的所述着陆-预先凹坑的所述边的凹槽轨道边。
12、按照权利要求11的设备,其中所述的着陆-预先凹坑的边的平均曲率半径小于在没有所述的着陆-预先凹坑的区域内的凹槽轨道的边的曲率半径。
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