[发明专利]蒸镀用坩埚

权利要求书

1、一种蒸镀用坩锅，其特征在于：该坩锅包含有：一容器本体；及至少一出气通道，其口朝下。

2、如权利要求1所述的蒸镀用坩锅，其特征在于：该容器具有一投料口，而该坩锅另包含一用以密封该投料口的罩盖。

3、如权利要求1所述的蒸镀用坩锅，其特征在于：该出气通道由该容器本体的部份侧壁所组成。

4、如权利要求3所述的蒸镀用坩锅，其特征在于：该出气通道位于该容器本体的中间部位。

5、如权利要求1所述的蒸镀用坩锅，其特征在于：该容器本体呈圆一环槽状。

6、如权利要求1所述的蒸镀用坩锅，其特征在于：该容器本体呈两侧长槽状。

7、一种蒸镀设备，其特征在于，其包含有：

一镀膜处理室；

一坩锅，位于镀膜处理室上方，该坩锅具有一容器本体及一可供出气的开口，其中该开口朝下；

一加热装置；及

一基板，对应于该坩锅而装设于镀膜处理室下方。

8、如权利要求7所述的蒸镀设备，其特征在于：该设备另包含一电浆产生装置。

9、如权利要求7所述的蒸镀设备，其特征在于：该设备另包含一用以移动该坩锅的移动装置。

10、如权利要求7所述的蒸镀设备，其特征在于：该设备另包含一可抽真空装置。

11、如权利要求7所述的蒸镀设备，其特征在于：该基板为一晶圆。

12、如权利要求7所述的蒸镀设备，其特征在于：该基板为一胶带。

13、如权利要求7所述的蒸镀设备，其特征在于：该基板为一玻璃基板。

14、一种蒸镀方法，其特征在于，在一镀膜处理室内装设一坩锅当蒸镀时，该坩锅位于欲镀膜基板的上方，在坩锅内镀膜材受热蒸发为蒸镀剂，其流动方式由上往下。