[发明专利]包含平行的固定和活动反射器的光学分插开关及其制造方法无效
申请号: | 01116220.1 | 申请日: | 2001-04-05 |
公开(公告)号: | CN1316658A | 公开(公告)日: | 2001-10-10 |
发明(设计)人: | 爱德华·A·希尔 | 申请(专利权)人: | 克罗诺斯集成微系统公司 |
主分类号: | G02B6/26 | 分类号: | G02B6/26 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 美国北卡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包含 平行 固定 活动 反射 学分 开关 及其 制造 方法 | ||
1.一种光学分插开关,包括:
一个衬底(310);
一个在衬底上接收光辐射的ADD光路(340);
一个在衬底上接收光辐射的IN光路(320);
一个在衬底上传送光辐射的OUT光路(330);
一个在衬底上传送光辐射的DROP光路(350);
固定地耦接在衬底上的多个固定反射器(380,390);和
活动耦接在衬底上的多个活动反射器(360,370),用于移向和离开辐射反射位置;
其中固定反射器和活动反射器分布在衬底上以选择性地耦接IN光路和OUT光路、IN光路和DROP光路以及ADD光路和OUT光路;
其特征在于:
衬底上没有一个固定反射器(380,390)与另一个正交取向;和
当处于辐射反射位置时,衬底上没有一个活动反射器(360,370)与另一个正交取向。
2.如权利要求1所述的光学分插开关,其中衬底包括单晶硅,光学分插开关的特征还在于当活动反射器处于辐射反射位置时,每个固定反射器和活动反射器沿单晶硅衬底的结晶学平面取向。
3.如权利要求1或2所述的光学分插开关,其特征还在于当活动反射器处于辐射反射位置时,所有的固定反射器和活动反射器(460’,470’,480’,490’)平行取向。
4.如权利要求1或2所述的光学分插开关,其特征还在于衬底上的ADD、IN、OUT和DROP光路相对于固定反射器和辐射反射位置处的活动反射器均成45°角或65°角取向。
5.如权利要求1或2所述的光学分插开关,其特征还在于多个固定反射器包括一个第一和一个第二固定反射器,多个活动反射器包括一个第一和一个第二活动反射器。
6.如权利要求5所述的光学分插开关,其特征还在于当第一和第二活动反射器处于辐射反射位置时IN光路和OUT光路共线,并且第一和第二活动反射器分布在IN光路和OUT光路之间。
7.如权利要求6所述的光学分插开关,其特征还在于第一固定反射器布置在衬底上,把来自第一活动反射器的光辐射反射到DROP光路上,并且第二固定反射器布置在衬底上,把来自ADD光路的光辐射反射到第二活动反射器上。
8.如权利要求6所述的光学分插开关,其特征还在于:
在衬底上接收光辐射的第二ADD光路(540b);
在衬底上接收光辐射的第二IN光路(520b);
在衬底上传送光辐射的第二OUT光路(530b);
在衬底上传送光辐射的第二DROP光路(550b);
固定耦接到衬底的第三固定反射器(580b);和
活动耦接到衬底以用于移向或离开辐射反射位置的第三和第四活动反射器(560b,570b);
其中第一和第三固定反射器以及第三和第四活动反射器布置在衬底上以选择性地耦接第二IN光路和第二OUT光路、选择性地耦接第二IN光路和第二DROP光路以及选择性地耦接第二ADD光路和第二OUT光路。
9.一种制造光学分插开关的方法,其特征在于:
只沿结晶学平面蚀刻(610)单晶衬底,以形成一个固定及活动反射器阵列;和
在单晶衬底上制造(630)平行的ADD、DROP、IN和OUT光路。
10.如权利要求9所述的方法,其中蚀刻步骤的特征还在于:
只沿结晶学平面湿刻单晶衬底,以形成一个固定及活动反射器阵列。
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