[发明专利]用于光学储存介质反射层或半反射层的金属合金有效

专利信息
申请号: 01116999.0 申请日: 2001-05-23
公开(公告)号: CN1336654A 公开(公告)日: 2002-02-20
发明(设计)人: H·尼 申请(专利权)人: 目标技术有限公司
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;C22C5/06;B32B33/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴大建,罗才希
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 光学 储存 介质 反射层 金属 合金
【权利要求书】:

1.一种光储存介质,该介质包括:

在至少一个主要表面上具有特征花纹的第一层;和

与第一层相邻的第一涂层,此第一涂层包括第一金属合金;其中第一金属合金包括银和锌;  而且其中银和锌数量之间关系定义为AgxZny时,0.85<x<0.9999,而0.0001<y<0.15。

2.如权利要求1的介质,而且其中0.001≤y≤0.10。

3.如权利要求1的介质,其中所述第一涂层直接接触所述第一金属合金。

4.如权利要求1的介质,该介质进一步包括:

在至少一个主要表面上具有特征花纹的第二层;和

与第二层相邻的第二涂层。

5.如权利要求1的介质,该介质进一步包括:

在至少一个主要表面上具有特征花纹的第二层,此第二层包括一种介电材料;

在至少一个主要表面上具有特征花纹的第三层,此第三层包括一种光学可重新记录材料;和

在至少一个主要表面上具有特征花纹的第四层,此第四层包括一种介电材料。

6.如权利要求5的介质,其中光学可重新记录材料是一种可相变材料。

7.如权利要求6的介质,其中光学可重新记录材料进一步包括选自下面的可相变材料:Ge-Sb-Te、As-In-Sb-Te、Cr-Ge-Sb-Te、As-Te-Ge、Te-Ge-Sn、Te-Ge-Sn-O、Te-Se、Sn-Te-Se、Te-Ge-Sn-Au、Ge-Sb-Te、Sb-Te-Se、In-Se-Tl、In-Sb、In-Sb-Se、In-Se-Tl-Co和Si-Te-Sn。

8.如权利要求5的介质,其中光学可重新记录材料是一种磁-光材料。

9.如权利要求8的介质,其中光学可重新记录材料进一步包括选自Tb-Fe-Co和Gd-Tb-Fe的磁-光材料。

10.如权利要求1的介质,其中第一金属合金包括镉,其含量是大约0.01a/o百分数~大约20.0a/o百分数银的存在量。

11.如权利要求1的介质,其中第一金属合金包括锂,其含量是大约0.01a/o百分数~大约10.0a/o百分数银的存在量。

12.如权利要求1的介质,其中第一金属合金包括锰,其含量是大约0.01a/o百分数~大约7.5a/o百分数银的存在量。

13.如权利要求1的介质,其中第一金属合金包括选自金、铑、铜、钌、锇、铱、铂和钯以及它们的混合物的金属,其中此金属含量是大约0.01a/o百分数~大约5.0a/o百分数银的存在量。

14.如权利要求1的介质,其中第一金属合金包括选自钛、镍、铟、铬、锗、锡、锑、镓、硅、硼、锆、钼和它们的混合物的金属,其中此金属含量是大约0.01a/o百分数~大约5.0a/o百分数银的存在量。

15.一种光储存介质,该介质包括:

在至少一个主要表面上具有特征花纹的第一层;和

与第一层相邻的第一涂层,此第一涂层包括第一金属合金;其中第一金属合金包括银和铝;而且其中银和铝数量之间关系定义为AgxAlz时,0.95<x<0.9999,而0.0001<z<0.05。

16.如权利要求15的介质,而且其中0.001≤z≤0.03。

17.如权利要求15的介质,其中所述第一涂层直接接触所述第一金属合金。

18.如权利要求15的介质,该介质进一步包括:

在至少一个主要表面上具有特征花纹的第二层;和

与第二层相邻的第二涂层。

19.如权利要求15的介质,该介质进一步包括:

在至少一个主要表面上具有特征花纹的第二层,此第二层包括一种介电材料;

在至少一个主要表面上具有特征花纹的第三层,此第三层包括一种光学可重新记录材料;和

在至少一个主要表面上具有特征花纹的第四层,此第四层包括一种介电材料。

20.如权利要求19的介质,其中光学可重新记录材料是一种可相变材料。

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