[发明专利]包括含有内酯部分的环烯聚合物的光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1．一种光致抗蚀剂组合物，包括(a)环烯聚合物与(b)光敏酸发生器，所述环烯聚合物包括：

ⅰ)环烯单元，每个有在水碱性溶液中抑制溶度的酸不稳定部分，与

ⅱ)环烯单体单元，每个有一个内酯部分，其中在插入在所述内酯部分与环烯的一环之间的任何部分中没有氧原子。

2．根据权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中所述环烯单体单元ⅱ)的所述内酯部分从下述组中选择，该组包括(a)一种与所述单体单元ⅱ)的环烯的一环稠合的内酯，(b)一种与所述单体单元ⅱ)的环烯的一环螺环结合的内酯，(c)一种与所述单体单元ⅱ)的环烯的一环直接结合而在内酯与环烯的所述环之间不共用任何原子的内酯，或(d)一种通过一个烃部分与所述单体单元ⅱ)的环烯的一环结合的内酯。

3．根据权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中所述环烯单体单元ⅱ)的所述内酯部分是一个从包括5节环螺甾内酯、6节环螺甾内酯与7节环螺甾内酯的组中选择的螺甾内酯部分。

4．根据权利要求3的光致抗蚀剂组合物，其中所述内酯部分基本上包含5节环螺甾内酯。

5．根据权利要求1的光致抗蚀剂组合物，还包括(c)一个对193nm射线基本透明的疏松疏水添加剂。

6．根据权利要求1的组合物，其中所述环烯聚合物包括至少约20mol％的环烯单元ⅰ)。

7．根据权利要求1的组合物，其中所述环烯聚合物包括至少约5mol％的环烯单元ⅱ)。

8．根据权利要求1的组合物，其中所述环烯聚合物还包括ⅲ)环烯单元，从包括下列的组中选择：降冰片烯与含有选自包括羧基、磺酰氨(sulfonamidyl)与氟代乙醇(fluoroalcohol)的侧酸基的环烯单元。

9．根据权利要求8的组合物，其中所述酸基是羧基团。

10．根据权利要求1的组合物，其中所述环烯单元ⅰ)包括一个酸不稳定保护团，其包括从包括叔烷基羧基酯、叔环烷基羧基酯、酯缩酮(ester ketal)与酯缩醛(ester acetal)的组中选择的部分。

11．根据权利要求5的组合物，其中所述疏松疏水添加剂包括一个含有至少10个碳原子与一个脂环部分的化合物。

12．根据权利要求11的组合物，其中所述疏松疏水添加剂包括从包括饱和甾族化合物、非甾族脂环化合物与在至少两个脂环部分之间有许多酸不稳定连接基的非甾族多脂环族化合物的组中选择的化合物。

13．根据权利要求5的组合物，其中所述组合物以所述环烯聚合物的重量为基准包括约5-25wt.％的所述疏松疏水添加剂。

14．根据权利要求1的组合物，其中所述环烯聚合物包括约5-50mol％的环烯单元ⅱ)。

15．根据权利要求1的组合物，其中所述光致抗蚀剂组合物以所述环烯聚合物的重量为基准包括至少约0.5wt.％的所述光敏酸发生器。

16．一个在衬底上的经构图的光致抗蚀剂结构，所述光致抗蚀剂包括(a)环烯聚合物，与(b)光敏酸发生器，所述环烯聚合物包括：

ⅰ)环烯单体单元，每个有在水碱性溶液中抑制溶度的酸不稳定部分，与

ⅱ)环烯单体单元，每个有一个内酯部分，其中在任何插入在所述内酯部分与单体的环烯的一环之间的部分中没有氧原子。

17．根据权利要求16的经构图的光致抗蚀剂结构，其中所述光致抗蚀剂还包括(c)对193nm射线基本透明的疏松疏水添加剂。

18．根据权利要求16的经构图的光致抗蚀剂结构，其中所述环烯聚合物还包括ⅲ)环烯单元，从包括下列的组中选择：降冰片烯与含有选自包括羧基、磺酰氨(sulfonamidyl)与氟代乙醇(fluoroalcohol)的侧酸基的环烯单元。