[发明专利]曝光方法和设备制造方法

权利要求书

1、投影曝光方法，通过投影光学系统将形成在掩模上的图形投影在感应基片上由此曝光感应基片，该方法包括：

制备在保持掩模的同时可移动的掩模载片台；

制备第1基片载片台和第2基片载片台，在保持感应基片的同时，每一个载片台都可以独立地在2维平面上移动；

使用掩模干涉计系统测量掩模载片台的位置信息；

执行第1曝光操作，其中，掩模载片台和第1基片载片台根据掩模干涉计系统和第1干涉计系统测得的位置信息按各自的扫描方向同步移动；

在所述第1曝光操作期间，使用第2基片载片台执行基片交换操作和检测操作中的至少一个操作；

在所述基片交换操作和所述检测操作中的至少一个操作过程期间，使用第2干涉计系统测量第2基片载片台的位置信息；

使用第1干涉计系统开始测量第2基片载片台的位置信息；

在开始之后，执行第2曝光操作，其中，掩模载片台和第2基片载片台根据掩模干涉计系统和第1干涉计系统测得的位置信息按各自的扫描方向同步移动。

2、权利要求1的投影曝光方法，其特征在于：掩模干涉计系统具有平行于掩模载片台扫描方向的测量轴和垂直于扫描方向的测量轴。

3、权利要求2的投影曝光方法，其特征在于：所述掩模载片台具有与平行于扫描方向的所述测量轴对应的立方角反射镜，所述掩模干涉计系统使用立方角反射镜测量所述掩模载片台的位置信息。

4、权利要求2的投影曝光方法，其特征在于：所述掩模干涉计系统使用垂直于扫描方向的测量轴测量掩模载片台的转动。

5、权利要求4的投影曝光方法，其特征在于：所述掩模载片台具有沿扫描方向延伸的反射面，所述掩模干涉计系统使用反射面测量掩模载片台的位置信息。

6、权利要求2的投影曝光方法，其特征在于：第1干涉计系统具有5个测量轴。

7、权利要求6的投影曝光方法，其特征在于：所述第1干涉计系统具有平行于扫描方向的测量轴，在第1曝光操作期间测量第1基片载片台的倾斜，在第2曝光操作期间测量第2基片载片台的倾斜。

8、权利要求6的投影曝光方法，其特征在于：所述第1干涉计系统具有垂直于扫描方向的测量轴，在第1曝光操作期间测量第1基片载片台的转动和倾斜，在第2曝光操作期间测量第2基片载片台的转动和倾斜。

9、权利要求1的投影曝光方法，其特征在于：在所述检测操作期间检测保持于第2基片载片台上的感应基片的对准信息。

10、权利要求1的投影曝光方法，其特征在于：执行第1曝光操作的第1基片载片台的移动区与执行基片交换操作和检测操作中的至少一个操作的第2基片载片台的移动区重叠。

11、权利要求1的投影曝光方法，其特征在于：在基片交换操作和检测操作中的至少一个操作过程期间，移动第2基片时执行第1曝光操作的第1基片载片台不会振动。

12、权利要求1的投影曝光方法，其特征在于：在基片交换操作和检测操作中的至少一个操作期间，所述第2干涉计系统测量第2基片载片台的转动和倾斜。

13、设备制造方法，包括应用权利要求1中所述方法的曝光工艺。

14、在感应基片上形成预定图形的曝光方法，包括：

在移动支撑第1保持部件的第1可动部件的同时，曝光被所述第1保持部件所保持的感应基片；

使用第1干涉计系统监测被第1可动部件所支撑的第1保持部件的位置信息：

在移动支撑第2保持部件的第2可动部件的同时，测量保持于所述第2保持部件上的感应基片的对准信息；

使用第2干涉计系统监测被第2可动部件所支撑的第2保持部件的位置信息：

调换保持部件，使得第1保持部件被第2可动部件所支撑，而第2保持部件被第1可动部件所支撑；

在调换后，在移动支撑第2保持部件的第1可动部件的同时，曝光保持于所述第2保持部件上的感应基片；

在调换后，使用第1干涉计系统监测被第1可动部件所支撑的第2保持部件的位置信息。

15、权利要求14的曝光方法，其特征在于：所述第1和第2可动部件用电磁力使之移动。