[发明专利]曝光装置以及曝光方法

权利要求书

1、投影曝光装置，将形成在掩模上的图形投影在感应基片上由此曝光感应基片，该装置包括：

投影系统，位于曝光光束的传输路径中，将图形的像投射到感应基片上；

载片台系统，位于投影系统的图象平面一侧上，具有第1基片载片台和第2基片载片台，在保持感应基片的同时，每一个载片台都可以独立地在平面内移动；

第1干涉计系统，与载片台系统功能相关，具有5个测量轴，在基片交换操作和第1基片载片台的检测操作中的至少一个操作过程期间监测第1基片载片台；

第2干涉计系统，与载片台系统功能相关，具有5个测量轴，在第2基片载片台的曝光操作期间监测第2基片载片台；以及

控制系统，与载片台系统、第1干涉计系统和第2干涉计系统功能相关，根据第1和第2干涉计系统的测量结果，通过移动第1基片载片台控制载片台系统执行基片交换操作和检测操作中的至少一个操作，同时通过移动第2基片载片台对保持在第2基片载片台上的感应基片执行曝光操作。

2、权利要求1的投影曝光装置，其特征在于：在曝光操作期间，在扫描方向移动第2基片载片台的同时曝光感应基片上的各个区域。

3、权利要求2的投影曝光装置，其特征在于：所述第1和第2干涉计系统均具有平行于扫描方向的测量轴和平行于与扫描方向垂直的非扫描方向的测量轴。

4、权利要求3的投影曝光装置，其特征在于：所述第2干涉计系统测量第2基片载片台的转动和倾斜。

5、权利要求4的投影曝光装置，其特征在于：所述第2干涉计系统使用平行于非扫描方向的测量轴测量第2基片载片台的倾斜和在非扫描方向上的位置。

6、权利要求4的投影曝光装置，其特征在于：所述第2干涉计系统使用平行于非扫描方向的测量轴测量第2基片载片台的转动、倾斜和在非扫描方向上的位置。

7、权利要求4的投影曝光装置，其特征在于：所述第2干涉计系统使用平行于扫描方向的测量轴测量第2基片载片台的倾斜和在扫描方向上的位置。

8、权利要求4的投影曝光装置，其特征在于：所述第1干涉计系统测量第1基片载片台的转动和倾斜。

9、权利要求8的投影曝光装置，其特征在于：所述第1干涉计系统使用平行于非扫描方向的测量轴和平行于非扫描方向的测量轴测量第1基片载片台的倾斜。

10、权利要求8的投影曝光装置，其特征在于：所述第1干涉计系统使用平行于非扫描方向的测量轴测量第1基片载片台的转动和倾斜。

11、权利要求3的投影曝光装置，其特征在于：所述第1干涉计系统测量第1基片载片台的转动和倾斜。

12、权利要求11的投影曝光装置，其特征在于：所述第1干涉计系统使用平行于非扫描方向的测量轴测量第1基片载片台的位置、转动和倾斜。

13、权利要求12的投影曝光装置，其特征在于：所述第1干涉计系统使用平行于扫描方向的测量轴测量第1基片载片台的位置和倾斜。

14、权利要求1的投影曝光装置，其特征在于：所述第1干涉计系统监测第1基片载片台的位置、转动和倾斜，所述第2干涉计系统监测第2基片载片台的位置、转动和倾斜。

15、权利要求2的投影曝光装置，其特征在于：在第2基片载片台的曝光操作期间，所述第1基片载片台和所述第2基片载片台在垂直于扫描方向的方向上彼此分离地移动。

16、权利要求2的投影曝光装置，还包括：

标记检出系统，在垂直于扫描方向的方向上与投影系统分开设置，在检测期间检出感应基片的对准信息。

17、权利要求1的投影曝光装置，其特征在于：执行基片交换操作和检测操作中的至少一个操作的第1基片载片台的移动区与执行曝光操作的第2基片载片台的移动区重叠。

18、权利要求1的投影曝光装置，其特征在于：移动第1基片载片台时第2基片载片台不会振动。