[发明专利]同时具备抗污及抗菌功能的高温陶瓷釉药、陶瓷釉面及其制法无效
申请号: | 01118537.6 | 申请日: | 2001-05-30 |
公开(公告)号: | CN1333193A | 公开(公告)日: | 2002-01-30 |
发明(设计)人: | 陈世杰;廖富源;杜国龙;陈俊贤 | 申请(专利权)人: | 和成欣业股份有限公司 |
主分类号: | C03C8/02 | 分类号: | C03C8/02;C04B41/86 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱黎光,张占榜 |
地址: | 台湾省台北市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 同时 具备 抗菌 功能 高温 陶瓷 釉面 及其 制法 | ||
1、一种同时具备抗污及抗菌功能的高温陶瓷釉药,其特征在于该釉药经调配后其原料含有的各种化学成份及其比例是SiO2 40wt%至65wt%,Al2O39wt%至15wt%,CaO 10wt%至15wt%,ZnO 4wt%至8wt%,Na2O 2wt%至5wt%,K2O 2wt%至5wt%,TiO2 0.5wt至2.5wt%,Ag2O 0.1wt至1.8wt%,原料粒度分布是颗粒直径小于0.5μm者的累积重量百分比被控制在50wt%以上。
2、一种同时具备抗污及抗菌功能的陶瓷釉面的制法,其特征是它是按一般陶瓷业的涂布方式将权利要求1所说的高温陶瓷釉药喷覆于陶瓷胚体上,并在950℃至1300℃间高温一次烧成,可使陶瓷产品釉层表面同时具有抗污及抗菌功能。
3、一种按权利要求2所说的制法所制成的同时具备抗污及抗菌功能的陶瓷釉面,釉面的表面平均粗糙度Ra在0.05μm至0.20μm。
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