[发明专利]真空室用擦拭材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 01118894.4 申请日: 2001-06-29
公开(公告)号: CN1330091A 公开(公告)日: 2002-01-09
发明(设计)人: 佐藤幸男 申请(专利权)人: 井上株式会社;井上技术研究所株式会社
主分类号: C08G18/00 分类号: C08G18/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 王维玉,丁业平
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 真空 擦拭 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种由聚氨酯发泡材料制成的擦拭材料,该擦拭材料用于硅片制造过程中使用的真空室中,其中所述聚氨酯发泡材料不含硅氧烷基并具有其孔直径控制在500-3,000μm的开孔结构。

2.根据权利要求1的真空室用擦拭材料,其中所述聚氨酯发泡材料是通过预先用水制成的异氰酸酯封端预聚物的反应得到的。

3.一种制备由聚氨酯发泡材料制成的擦拭材料,该擦拭材料用于硅片制造过程中使用的真空室中,该方法包括首先至少将多元醇和苯亚甲基二异氰酸酯混合制成异氰酸酯封端的预聚物,将所述异氰酸酯封端的预聚物与HLB值为9-20的非硅氧烷基表面活性剂混合,然后使所述混合物进行反应并控制发泡方式使得到的擦拭材料的孔直径为500μm-3,000μm并且不含硅氧烷。

4.一种制备由聚氨酯发泡材料制成的擦拭材料,该擦拭材料用于硅片制造过程中使用的真空室中,该方法包括至少将多元醇、苯亚甲基二异氰酸酯、非硅氧烷基表面活性剂、混合,然后使所述混合物进行反应并控制发泡方式使得到的擦拭材料的孔直径为500μm-3,000μm并不含硅氧烷。

5.根据权利要求4的制备真空室用擦拭材料的方法,其中所述非硅氧烷基表面活性剂的HLB值为9-20。

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