[发明专利]磁铁材料制法、薄带状磁铁材料、粉末状磁铁材料及粘结磁铁无效
申请号: | 01119668.8 | 申请日: | 2001-04-12 |
公开(公告)号: | CN1326830A | 公开(公告)日: | 2001-12-19 |
发明(设计)人: | 新井圣;加藤洋 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B22D11/06 | 分类号: | B22D11/06;B22F9/02;B22F9/08;H01F1/057 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 魏金玺,杨丽琴 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁铁 材料 制法 带状 粉末状 粘结 | ||
1.磁铁材料的制造方法,该制造方法是使合金熔液碰撞在冷却辊的圆周面上,发生冷却凝固,来制造合金组成以Rx(Fe1-yCoy)100-x-z(R是至少一种稀土元素、x:10~15原子%、y:0~0.30、z:4~10原子%)表示的薄带状磁铁材料的磁铁材料的制造方法,其特征在于,使用在其圆周面上具有排出侵入上述圆周面和上述合金熔液的外浇口之间的气体的气体抽出手段的冷却辊。
2.权利要求1记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述冷却辊具有辊基体材料和设置在该辊基体材料的外周面的表面层,在上述表面层上具有上述气体抽出手段。
3.权利要求2记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述冷却辊的上述表面层是以具有比上述辊基体材料的构成材料在室温附近的导热率低的导热率的材料构成的。
4.权利要求2或3记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述冷却辊的上述表面层是以陶瓷构成的。
5.权利要求2~4中的任一项记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述冷却辊的上述表面层是以在室温附近的导热率为80W·m-1·K-1以下的材料构成的。
6.权利要求2~5中的任一项记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述冷却辊的上述表面层是以在室温附近的热膨胀系数为3.5~18[×10-6K-1]的材料构成的。
7.权利要求2~6中的任一项记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述冷却辊的上述表面层的平均厚度是0.5~50μm。
8.权利要求2~7中的任一项记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述冷却辊的上述表面层是对其表面不进行机械加工而形成的。
9.权利要求1~8中的任一项记载的磁铁材料的制造方法,其中,除去上述气体抽出手段的上述圆周面部分的表面粗糙度Ra是0.05~50μm。
10.权利要求1~9中的任一项记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述气体抽出手段是至少1条沟。
11.权利要求10记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述沟的平均宽度是0.5~90μm。
12.权利要求10或11记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述沟的平均深度是0.5~20μm。
13.权利要求10~12中的任一项记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述沟的纵向和冷却辊的旋转方向形成的角度是30°以下。
14.权利要求10~13中的任一项记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述沟形成以冷却辊的旋转轴为中心的螺旋状。
15.权利要求10~14中的任一项记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述沟是并列设置,其平均间距是0.5~100μm。
16.权利要求10~15中的任一项记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述沟在是上述圆周面的边缘部开口的。
17.权利要求10~16中的任一项记载的磁铁材料的制造方法,其中,上述沟在上述圆周面上占有的投影面积的比例是10~99.5%。
18.权利要求1~17中的任一项记载的磁铁材料的制造方法,其中,具有粉碎上述薄带状磁铁材料的工序。
19.薄带状磁铁材料,其特征在于,是使用权利要求1~17中的任一项记载的方法制成的。
20.权利要求19记载的薄带状磁铁材料,其中,平均厚度是8~50μm。
21.粉末状磁铁材料,其特征在于,是使用权利要求18中记载的方法制成的。
22.权利要求21记载的粉末状磁铁材料,其中,粉末状磁铁材料是在其制造过程中或者制造后进行至少一次热处理。
23.权利要求21或22记载的粉末状磁铁材料,其中,平均粒径是1~300μm。
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