[发明专利]含离子交换的照相用化合物的照相元件无效

专利信息
申请号: 01121193.8 申请日: 2001-06-12
公开(公告)号: CN1329282A 公开(公告)日: 2002-01-02
发明(设计)人: M·E·欧文;L·M·欧文;J·M·努南 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: G03C5/26 分类号: G03C5/26;G03C5/38;G03C7/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 关立新,杨九昌
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 离子交换 照相 化合物 元件
【权利要求书】:

1.包括支撑物载有一涂层,它包含除了还原剂之外至少一种离子性束缚于一离子交换母体上的照相用化合物支撑物的照相元件。

2.权利要求1所述照相元件,其中所述元件包括至少一种光敏卤化银层。

3.权利要求1或2所述照相元件,其中所述照相用化合物选自于由成色剂、显影抑制剂、碱、碱前体、酸、酸前体、能与银结合的配体、定影剂、漂白剂、防灰雾剂、调色剂和银稳定剂所构成的一群。

4.权利要求1或2的照相元件,其中所述离子交换母体是有机合成树脂阳离子交换树脂,优选有一个或多个下述离子性基团:SO3-、COO-、PO32-、HPO2-、AsO2-、SeO3-,或阴离子交换树脂,优选有一个或多个下述离子性基团:

5.权利要求1或2所述照相元件,其中所述离子交换母体包括了平均粒子直径小于10μm的粒子。

6.包括支撑物、至少一个光敏卤化银层和一个除还原剂之外的离子性束缚于离子交换树脂的照相用化合物的照相元件的加工方法,所述方法包括把元件与加工溶液或在涂布粘合剂中包含的pH大于8的溶液的接触。

7.包括至少一个卤化银光敏乳剂层的照相元件的加工方法,所述方法包括把元件与(a)加工溶液和(b)包含有除还原剂之外的离子性束缚于离子交换母体上的照相用化合物的片子接触,其中所述加工溶液优选pH为约8~13或离子强度约为0.001M。

8.包括至少一个卤化银光敏层的照相元件的加工方法,所述方法包括把元件与(a)包含有除还原剂之外的离子性束缚于离子交换母体上的照相用化合物的片子和(b)把温度升至高于50℃的热能相接触。

9.一种成像方法,其包括的步骤有:

在包括除还原剂之外的离子性束缚于离子交换树脂的照相用化合物的光敏卤化银元件中以成像曝光来形成一个影像;

扫描所述形成的影像以从所述形成的影像形成一个第1次电子影像重显(再现);

把所述第1电子影像数字化以形成数字影像;

修改所述数字影像以形成第2电子影像重显;和

转换、存储、传送、打印或显示所述第2电子影像重显。

10.一种形成影像的方法,其包括步骤有:

在包括除还原剂之外的离子性束缚于离子交换树脂的照相用化合物的光敏卤化银元件中以成像曝光来形成一个影像;

扫描所述形成的影像以从所述形成的影像形成一个电子影像重显;和

转换、存储、传送、打印或显示所述第2电子影像重显。

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