[发明专利]曝光装置

权利要求书

1、曝光装置，包括：

载片台系统，具有第1载片台和第2载片台，在保持基片的同时，每一个载片台都可以独立地在平面内的X方向上和Y方向上移动且每一个载片台都具有第1驱动系统和第2驱动系统，各驱动系统包括一个Y电机和两个X电机，所述Y电机具有平行于Y方向延伸的部件且第1载片台和第2载片台可以沿Y方向移动，所述X电机各具有平行于X方向延伸的第1部件和可沿对应的X电机的第1部件移动的第2部件，所述Y电机的所述部件连接于所述两个X电机的第2部件；

投影系统，位于曝光光束的传输路径中，在曝光操作中将图形的像投射到保持于第1和第2载片台之一上的基片上；以及

检测系统，在检测操作中检测保持于第1和第2载片台中另一个载片台上的基片的对准信息，所述检测操作在曝光操作期间进行，检测系统的检测区在X方向上与投影系统的投射区分离开，以及

其中，保持于一个载片台上的基片的曝光操作完成之后，曝光保持于另一载片台上的基片。

2、权利要求1的曝光装置，其特征在于：笫1驱动系统中X电机的第1部件和第2驱动系统中X电机的第1部件形成为一体。

3、权利要求1的曝光装置，还包括：

第1干涉计系统，在曝光操作期间监测所述一个载片台，所述第1干涉计系统具有平行于X方向的测量轴和平行于Y方向的测量轴；以及

第2干涉计系统，在检测操作期间监测所述另一个载片台，所述第2干涉计系统具有平行于X方向的测量轴和平行于Y方向的测量轴。

4、权利要求3的曝光装置，还包括：

掩模载片台，保持具有掩模图形的掩模，投影系统投射掩模图形的像；以及

监测掩模载片台的第3干涉计系统，所述第3干涉计系统具有平行于X方向的测量轴和平行于Y方向的测量轴。

5、权利要求4的曝光装置，其特征在于：

所述第1干涉计系统能够监测曝光操作期间所述一个载片台的位置、倾斜和转动，所述第2干涉计系统能够监测检测操作期间所述另一个载片台的位置、倾斜和转动，所述第3干涉计系统能够监测所述掩模载片台的位置和转动。

6、权利要求4的曝光装置，其特征在于：在曝光操作期间，在掩模载片台和所述一个载片台同步移动的同时，曝光保持于所述一个载片台上的基片的多个分开的区域。

7、权利要求6的曝光装置，其特征在于：所述掩模载片台和所述一个载片台在Y方向上同步移动。

8、曝光装置，包括：

载片台系统，具有笫1载片台和第2载片台，在保持基片的同时，每一个载片台都可以独立地在平面上移动且每一个载片台都具有干涉计反射面；

投影系统，位于曝光光束的传输路径中，在曝光操作中将图形的像投射到保持于第1和第2载片台之一上的基片上；

固定于投影系统上的第1基准反射面；

第1干涉计系统，在曝光操作期间，通过将光束分别施加于第1基准反射面和所述一个载片台上的干涉反射面来测量所述一个载片台的位置；

检测系统，在检测操作中检测保持于笫1和第2载片台中另一个载片台上的基片的对准信息，所述曝光操作在检测操作期间进行；

固定于检测系统上的第2基准反射面；

第2干涉计系统，在检测操作期间，通过将光束分别施加于第2基准反射面和所述另一个载片台上的干涉反射面来测量所述另一个载片台的位置；以及

其中，保持于所述一个载片台上的基片的曝光操作完成之后，曝光保持于所述另一载片台上的基片。

9、权利要求8的曝光装置，其特征在于：所述第1干涉计系统具有与所述投影系统的投射轴交叉的测量轴，所述第2干涉计系统具有与所述检测系统的检测轴交叉的测量轴。

10、权利要求8的曝光装置，其特征在于：所述第1干涉计系统具有能够监测所述一个载片台的位置、偏转和倾斜的测量轴。

11、权利要求8的曝光装置，其特征在于：所述笫2干涉计系统具有能够监测所述另一个载片台的位置、偏转和倾斜的测量轴。

12、权利要求8的曝光装置，其特征在于：所述第1和第2载片台都具有通过投影系统检测的基准标记。