[发明专利]光刻装置和曝光方法

权利要求书

1、光刻装置，包括：

平行于X方向且平行于Y方向伸展的基面；

第1和第2物体支架，二者都可以在所述基面上方移动，并且可以平行于X方向且平行于Y方向从第1位置移动到第3位置，所述第1位置包括在曝光区中；以及

移位系统，用于使第1物体支架和第2物体支架在基面上方移动，其中，移位系统包括能够与第1物体支架和第2物体支架交替耦合的第1移位单元和第2移位单元，第1移位单元适用于在第3位置和第1位置与第3位置间的第2位置之间移动物体支架，且适用于将物体支架从第2位置移动到第3位置，第2移位单元适用于在第2位置和第1位置之间移动物体支架，且适用于将物体支架从第1位置移动到第2位置。

2、权利要求1的光刻装置，其特征在于：第1和第2移位单元均包括机械手系统。

3、权利要求1的光刻装置，还包括：

第1干涉计系统，监测曝光区中的第1物体支架。

4、权利要求3的光刻装置，所述第1干涉计系统监测第1物体支架在X方向和Y方向上的位置。

5、权利要求4的光刻装置，所述第1干涉计系统监测第1物体支架的偏转。

6、权利要求4的光刻装置，所述第1干涉计系统监测第1物体支架的倾斜。

7、权利要求3的光刻装置，还包括：

第2干涉计系统，监测曝光区外面的第2物体支架。

8、权利要求7的光刻装置，其特征在于：在对第2物体支架保持的物体进行测量操作的期间，所述第2干涉计系统监测第2物体支架。

9、权利要求8的光刻装置，其特征在于：在所述测量操作中，检测第2物体支架上物体的对准掩模。

10、权利要求4的光刻装置，每一个物体支架都具有用于干涉计系统的反射面。

11、权利要求10的光刻装置，还包括：

提供于每一个物体支架上的基准标记；以及

检测移位于曝光区中的第1物体支架上的基准标记的检测系统，由第1物体支架保持的物体上的多个拍摄区分别根据通过检测基准标记得到的信息来定位。

12、曝光方法，包括：

用第1移位单元将第1物体支架从第3区移位到第2区，第1物体支架可以平行于X方向且平行于Y方向移动；

用第2移位单元将第2物体支架从第1区移位到第2区，第2物体支架可以平行于X方向且平行于Y方向移动，第2区位于第1区和第3区之间；

用第2移位单元将第1物体支架从第2区移位到第1区，第1物体支架和第2物体支架交替耦合于第2移位单元；

用第1移位单元将第2物体支架从第2区移位到第3区，第1物体支架和第2物体支架交替耦合于第1移位单元；以及

其中，第2物体支架上的第2物体在第1区中的曝光操作完成之后，第2物体从第1区经过第2区移动到第3区，然后在第1物体支架上将被曝光的第1物体从第3区经过第2区被转移到第1区。

13、权利要求12的曝光方法，还包括：

在所述曝光操作期间，对第1物体支架上的第1物体进行测量操作。

14、权利要求13的曝光方法，其特征在于：在所述测量操作中，检测第1物体上形成的对准掩模。

15、权利要求12的曝光方法，还包括：在所述曝光操作期间，在第3区中进行物体交换操作，用第3物体交换第1物体支架上的第1物体。

16、权利要求12的曝光方法，还包括：在所述曝光操作期间，用干涉计系统监测第2物体支架。

17、权利要求16的曝光方法，其特征在于：所述干涉计系统可以监测第2物体支架在X方向和Y方向上的偏转、倾斜和位置。

18、权利要求16的曝光方法，还包括：在对第1物体支架上的第1物体进行曝光操作之前，就用所述干涉计系统监测已被移位到第1区中的第1物体支架。