[发明专利]负压空气润滑承载浮动块无效

专利信息
申请号: 01122024.4 申请日: 2001-06-22
公开(公告)号: CN1336661A 公开(公告)日: 2002-02-20
发明(设计)人: 姜泰式;朴鲁烈;金宰元 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G11B19/20 分类号: G11B19/20;G11B5/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王以平
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 空气 润滑 承载 浮动
【权利要求书】:

1.一种负压空气承载浮动块,包括:

块体,沿记录信息的盘的磁道在第一方向飞行,同时被抬起预定的高度;

多个轨体,提供在对应于盘的表面的块体的底部;

进气通道,布置在沿第一方向上块体的底部,并且在浮动块的前导端部分有一个进气部,在块体的内侧有一个排气部;以及

一对负压凹进部分,提供在进气通道的排气部,相对于进气通道被设置在沿垂直于第一方向的第二方向。

2.根据权利要求1的浮动块,其中一个第一轨座,具有W形状,位于沿第一方向浮动块的前侧,包围所述一对负压凹进部分,并且具有一个突出部分,该突出部分在浮动块的中间沿两个负压凹进部分之间延伸,并且对应于每一个负压凹进部分的第一轨体提供在第一轨座上。

3.根据权利要求2的浮动块,其中突出部分的上表面配置为低于第一轨体,并且进气通道提供在突出部分的上表面上。

4.根据权利要求2或3的浮动块,其中第一轨体形成在第一轨座的上表面的一部分上,并且一个前阶梯部分提供在第一轨座的上表面上第一轨体的前导端部分。

5.根据权利要求4的浮动块,其中第一轨体形成在第一轨座的上表面的一部分上,并且一个后阶梯部分提供在第一轨座的上表面上在第一轨体的后面面向负压凹进部分。

6.根据权利要求2或3的浮动块,其中第一轨体形成在第一轨座的上表面的一部分上,并且一个后阶梯部分提供在第一轨座的上表面上在第一轨体的后面面向负压凹进部分。

7.根据权利要求1-3和权利要求5的任一项的浮动块,其中第二轨座以恒定的间隔提供在第一轨座的两侧的每一个的后面,并且第二轨体提供在第二轨座的每一个上。

8.根据权利要求4的浮动块,其中第二轨座以恒定的间隔提供在第一轨座的两侧的每一个的后面,并且第二轨体提供在第二轨座的每一个上。

9.根据权利要求6的浮动块,其中第二轨座以恒定的间隔提供在第一轨座的两侧的每一个的后面,并且第二轨体提供在第二轨座的每一个上。

10.根据权利要求7的浮动块,其中第三轨体提供在两个第二轨体之间。

11.根据权利要求9或10的浮动块,其中第三轨体提供在两个第二轨体之间。

12.根据权利要求7的浮动块,其中第二轨体与块体的后端隔开预定的距离。

13.根据权利要求8-10任一项的浮动块,其中第二轨体与块体的后端隔开预定的距离。

14.根据权利要求11的浮动块,其中第二轨体与块体的后端隔开预定的距离。

15.根据权利要求2的浮动块,其中一个倾斜部分形成在第一轨座前侧的两边的每一个角隅处。

16.一种负压空气承载浮动块,包括:

一个块体;

一个第一轨体,提供在沿第一方向块体的前导端部分,其具有配置在沿第一方向两侧的一对第一部分,沿第二方向的一个第二部分,其两端与第一部分的前导端部分相连接,以及提供在第二部分的中间部分的沿第一方向的一个进气通道,其中一对负压凹进部分在第一部分与第二部分之间的内部空间以预定的间隔相对于进气通道提供在沿第二方向的两侧;以及

一对第二轨体,提供在沿第一方向浮动块的块体的后面的两侧。

17.根据权利要求16的浮动块,其中一个第三轨体位于沿第一方向后侧的中间部分,插入在两个第二轨体之间。

18.根据权利要求16或17的浮动块,其中第一轨体具有一个在其中间部分具有预定高度的突出部分,并且第一轨体形成在第一轨座两侧上,第一轨座具有W形状并包围负压凹进部分,进气通道提供在第一轨座的突出部分的上表面上。

19.根据权利要求18的浮动块,其中第一轨体形成在第一轨座的上表面的一部分上,并且一个阶梯部分通过第一轨座的不形成第一轨体的上表面形成在第一轨体的任何前侧与后侧处。

20.根据权利要求18的浮动块,其中突出部分的长度具有不大于块体长度的70%的值。

21.根据权利要求19的浮动块,其中突出部分的长度具有不大于块体长度的70%的值。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/01122024.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top