[发明专利]半导体发光器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 01122064.3 申请日: 2001-03-09
公开(公告)号: CN1322018A 公开(公告)日: 2001-11-14
发明(设计)人: 菅原秀人;新田康一;阿部洋久;绀野邦明;出井康夫 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王永刚
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 发光 器件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1、半导体发光器件,其特征为,它备有

一个半导体发光元件,包含通过电流注入发射第一波长的光的有源区,

至少一个半导体叠层体,包括结合到上述半导体发光元件上,利用上述第一波长的光激发并发射第二波长的光的发光层,

上述第一波长的光与上述第二波长的光混合后输出。

2、如权利要求1所述的半导体发光器件,其特征为,上述有源区为GaN系有源区,上述发光层为InGaAlP系发光层。

3、如权利要求2所述的半导体发光器件,其特征为,上述有源区为发射蓝光的GaN系有源区,上述发光层为利用从上述有源区发出的蓝光激发发射黄光的InGaAlP系发光层。

4、如权利要求1所述的半导体发光器件,其特征为,上述半导体叠层体具有:利用上述第一波长的光进行激发发射上述第二波长的光的第一发光层和由上述第一波长的光及上述第二波长的光激发发射第三波长的光的第二发光层。

5、如权利要求4所述的半导体发光器件,其特征为,上述有源区为发射蓝光的GaN系有源区,

上述第一发光层为由从上述有源区发出的蓝光激发并发射绿色光的第一个InGaAlP系发光层,

上述第二发光层,为由上述蓝色发射光和绿色发射光激发后发射红色光的第二个InGaAlP发光层。

6、如权利要求2所述的半导体发光器件,其特征为,上述发光层为InAlP/InGaAlP多层膜的发光层。

7、如权利要求6所述的半导体发光器件,其特征为,上述半导体叠层体具有将上述发光层夹持在InGaAlP系包层与GaAs衬底之间的结构,上述半导体叠层体的上述InGaAlP系包层侧结合到与上述半导体发光元件的光提取面对向的面上。

8、如权利要求6所述的半导体发光器件,其特征为,上述半导体叠层体具有将发光层夹持在InGaAlP系包层与保护膜之间的结构,上述半导体叠层体的上述InGaAlP系包层侧结合到上述半导体发光元件上。

9、如权利要求6所述的半导体发光器件,其特征为,上述半导体叠层体具有将上述发光层夹持在InGaAlP系包层与相对于从上述发光层发射的第二波长的光有透光性的衬底之间的结构,上述半导体叠层体的上述InGaAlP系包层侧结合到上述半导体发光元件上。

10、如权利要求2所述的半导体发光器件,其特征为,上述有源区为GaN/InGaN多量子阱结构的有源区。

11、如权利要求2所述的半导体发光器件,其特征为,上述半导体发光元件备有:具有相互对向的第一面和第二面的衬底,形成于上述衬底的第一面上的缓冲层,形成于上述缓冲层上的第一导电型GaN系包层,形成于上述第一导电型GaN系包层上的有源区,形成于上述有源区上的第二导电型GaN系包层。

12、如权利要求11所述的半导体发光器件,其特征为,上述半导体发光元件备有:具有相互对向的第一及第二面的蓝宝石衬底,形成于上述蓝宝石衬底的第一面上的缓冲层,形成于上述缓冲层上的n型GaN系包层,形成于上述n型GaN系包层上的有源区,形成于上述有源区上的p型GaN系包层,形成于上述p型GaN系包层上的p型GaN系接触层,形成于上述p型GaN系接触层上的p侧电极,形成于通过腐蚀露出的上述n型GaN系包层上的n侧电极。

13、如权利要求11所述的半导体发光器件,其特征为,上述半导体发光元件备有:具有相互对向的第一和第二面的n型半导体衬底,形成于上述衬底的第一面上的缓冲层,形成于上述缓冲层上的n型GaN系包层,形成于上述n型GaN系包层上的有源区,形成于上述有源区上的p型GaN系包层,形成于上述p型GaN系包层上的P型GaN接触层,形成于上述p型GaN系接触层上的透明的p侧电极,其结构为,从上述p型GaN系接触层侧提取光,

上述半导体叠层体备有:具有相互对向的第一及第二面的n型GaAs衬底,形成于上述n型GaAs衬底的第一面上的n型InAlP/InGaAlP多层膜的发光层,形成于上述发光层上的n型InGaAlP系包层,形成于上述n型GaAs衬底的上述第二面上的n侧电极,

上述半导体叠层体的上述n型InGaAlP系包层结合到上述半导体发光元件的上述n型半导体衬底的上述第二面上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/01122064.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top